Vad är ett MOCVD-system?

MOCVD, känd som Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), är en teknik för att odla tunna halvledarfilmer på ett substrat. Med MOCVD kan många nanolager deponeras med stor precision, vart och ett med en kontrollerad tjocklek, för att bilda material med specifika optiska och elektriska egenskaper.

Ett MOCVD-system är en typ av kemisk ångavsättning (CVD) som använder organiska metallprekursorer för att avsätta tunna filmer av material på ett substrat. Systemet består av ett reaktorkärl, ett gastillförselsystem, en substrathållare och ett temperaturkontrollsystem. De organiska metallprekursorerna införs i reaktorkärlet tillsammans med en bärargas, och temperaturen kontrolleras noggrant för att säkerställa tillväxten av en tunn film av hög kvalitet.

Användningen av MOCVD har flera fördelar jämfört med andra deponeringstekniker. En fördel är att det möjliggör avsättning av komplexa material med exakt kontroll över tjockleken och sammansättningen av de tunna filmerna. Detta är särskilt viktigt för produktion av högpresterande halvledarenheter, där materialegenskaperna hos de tunna filmerna kan ha en betydande inverkan på enhetens prestanda.

En annan fördel med MOCVD är att den kan användas för att avsätta tunna filmer på en mängd olika substrat, inklusive kisel, safir och galliumarsenid. Denna flexibilitet gör det till en viktig process vid tillverkning av ett brett utbud av halvledarenheter, från datorchips till lysdioder.

MOCVD-system används i stor utsträckning inom halvledarindustrin och de har varit avgörande för utvecklingen av många avancerade teknologier. Till exempel har MOCVD använts för att producera högeffektiva lysdioder för belysnings- och displayapplikationer, såväl som högpresterande solceller för solcellsapplikationer.