Kina Specialgrafit Tillverkare, leverantörer, fabrik

Specialgrafit är en slags konstgjord grafit som behandlas. Det är ett viktigt material som är nödvändigt i alla aspekter av halvledar- och fotovoltaisk tillverkningsprocess, inklusive kristalltillväxt, jonimplantation, epitaxi, etc.

1. Silikonkarbid (Sic) kristalltillväxt

Kiselkarbid, som ett tredje generationens halvledarmaterial, används allmänt i nya energifordon, 5G-kommunikation och andra fält. I 6-tums och 8-tums Sic-kristalltillväxtprocessen används isostatisk grafit främst för att tillverka följande nyckelkomponenter:

Grafit Crucible: Detta kan användas för att syntetisera SiC pulvermaterial och också hjälpa till med kristalltillväxt vid höga temperaturer. Dess höga renhet, högtemperaturmotstånd och termisk chockmotstånd säkerställer en stabil kristalltillväxtmiljö.

Grafitvärmare: Detta ger enhetlig värmefördelning, vilket säkerställer SIC-kristalltillväxt av hög kvalitet.

Isoleringsrör: Detta upprätthåller temperaturens enhetlighet inom kristalltillväxtugnen och minskar värmeförlust.

2. Jonimplantation

Jonimplantation är en nyckelprocess inom halvledartillverkning. Isostatisk grafit används främst för att tillverka följande komponenter i jon implantat:

Graphite Getter: Detta absorberar föroreningsjoner i jonstrålen, vilket säkerställer jonrenhet.

Grafitfokuseringsring: Detta fokuserar jonstrålen och förbättrar jonimplantat noggrannhet och effektivitet. Grafitunderlagsbrickor: Används för att stödja kiselskivor och upprätthålla stabilitet och konsistens under jonimplantation.

3. Epitaxiprocess

Epitaxy -processen är ett kritiskt steg i tillverkning av halvledarenheter. Isostatiskt pressad grafit används främst för att tillverka följande komponenter i Epitaxyugnar:

Grafitbrickor och susceptorer: Används för att stödja kiselskivor, vilket ger stabilt stöd och enhetlig värmeledning under epitaxiprocessen.

4. Andra tillämpningar av halvledartillverkning

Isostatiskt pressad grafit används också i stor utsträckning i följande tillämpningsapplikationer för halvledare:

Etsningsprocess: Används för att tillverka grafitelektroder och skyddskomponenter för etsare. Dess korrosionsbeständighet och hög renhet säkerställer stabilitet och precision i etsningsprocessen.

Chemical Vapor Deposition (CVD): Används för att tillverka grafitbrickor och värmare i CVD -ugnar. Dess höga värmeledningsförmåga och högtemperaturmotstånd säkerställer enhetlig tunnfilmavlagring.

Förpackningstest: Används för att tillverka testarmaturer och bärarbrickor. Dess höga precision och låga föroreningar säkerställer exakta testresultat.

Fördelar med grafitdelar

Hög renhet:

Med hjälp av högrenouspressat pressat grafitmaterial med extremt låg föroreningsinnehåll uppfyller det de stränga materialens renhetskrav för halvledartillverkning. Företagets egen reningsugn kan rena grafit till under 5 ppm.

Hög precision:

Med avancerad bearbetningsutrustning och mogen bearbetningsteknik säkerställer det att produktens dimensionella noggrannhet och form- och positionstoleranser når mikronnivån.

Hög prestanda:

Produkten har utmärkt hög temperaturmotstånd, korrosionsbeständighet, strålningsmotstånd, hög värmeledningsförmåga och andra egenskaper, och uppfyller de olika hårda arbetsförhållandena för halvledartillverkning.

Anpassad tjänst:

Anpassade produktdesign och bearbetningstjänster kan tillhandahållas enligt kundens behov för att tillgodose behoven i olika applikationsscenarier.

Typer av grafitprodukter

(1) Isostatisk grafit
Isostatiska grafitprodukter produceras genom kall isostatisk pressning. Jämfört med andra formningsmetoder har de klovarna som produceras genom denna process utmärkt stabilitet. De grafitprodukter som krävs för SIC -enstaka kristaller är alla stora i storlek, vilket kommer att leda till ojämn renhet på ytan och inuti grafitprodukterna, som inte kan uppfylla användningskraven. För att uppfylla de djupa reningskraven för storstora grafitprodukter som krävs för SIC-enstaka kristaller, bör en unik hög temperatur termokemisk pulsreningsprocess antas för att uppnå djup och enhetlig rening av storstora eller speciella formade grafitprodukter, så att produktytans renhet kan uppfylla användningskraven.

(2) porös grafit
Porös grafit är en typ av grafit med hög porositet och låg densitet. I SIC -kristalltillväxtprocessen spelar porös grafit en viktig roll för att förbättra massaöverföringens enhetlighet, minska förekomsten av fasförändring och förbättra kristallformen.
Användningen av porös grafit förbättrar temperaturen och temperaturens enhetlighet i råmaterialområdet, ökar den axiella temperaturskillnaden i degeln och har också en viss effekt på att försvaga omkristallisationen av råmaterialytan; I tillväxtkammaren förbättrar porös grafit stabiliteten i materialflödet under hela tillväxtprocessen, ökar C/SI -förhållandet för tillväxtområdet, hjälper till att minska sannolikheten för fasförändring, och samtidigt spelar porös grafit också en roll för att förbättra kristallgränssnittet.

(3) filt
Mjuk filt och hårt kände både att spela rollen som viktiga termiska isoleringsmaterial i SIC -kristalltillväxt och epitaxiala länkar.

(4) grafitfolie
Grafitpapper är ett funktionellt material tillverkat av högkolflinggrafit genom kemisk behandling och högtemperaturvalsning. Den har hög värmeledningsförmåga, elektrisk konduktivitet, flexibilitet och korrosionsmotstånd.

(5) Kompositmaterial
Kolkol-kolt termiskt fält är ett av de grundläggande förbrukningsvarorna i fotovoltaisk produktion av en kristallugn.

Semicorex produktion

Semicorex gör grafit med småpartier, anpassade produktionsmetoder. Produktionen med små satser gör produkterna mer kontrollerbara. Hela processen styrs av programmerbara logikstyrenheter (PLC), de detaljerade processdata registrerades, vilket möjliggjorde fullständig spårbarhet för livscykel.

Under hela rostningsprocessen upprätthöll konsistensen i resistivitet på olika platser och den snäva temperaturkontrollen. Detta säkerställer grafitmaterialets homogenitet och tillförlitlighet.

Semicorex använder helt isostatisk pressningsteknik, som skiljer sig från andra leverantörer; Det betyder att grafiten är extremt enhetlig och har visat sig vara särskilt viktig i epitaxiella processer. De omfattande materialens enhetlighetstester genomfördes, inklusive densitet, resistivitet, hårdhet, böjstyrka och styrka över olika prover.