Företagsnyheter

Vilka är de tekniska svårigheterna med Sic Crystal Growth Furnace

Crystal Growth Furnace är kärnutrustningen för tillväxt av kiselkarbidkristaller. Det liknar den traditionella kristallina kiselkvalitetens kristalltillväxtugn. Ugnsstrukturen är inte särskilt komplicerad. Det består huvudsakligen av ugnskroppen, värmesystemet, spolöverföringsmekanismen, vakuumförvä......

Vad är glasliknande kolbeläggning

Semicorex erbjuder högkvalitativ termisk isolering filt och glasliknande kolbeläggning.

Vad är en dummy wafer?

I halvledartillverkningsprocessen utgör wafers grunden för chipproduktion. Bland dessa spelar en speciell typ av wafer, kallad Dummy Wafer, en avgörande roll för att säkerställa utrustningens stabilitet och kontrollera produktionskostnaderna.

Hierarkiska porösa kolmaterial: syntes och introduktion

Syntetiserar kiselkarbidpulver med hög renhet

Högrent kiselkarbidpulver har exceptionellt breda bandgap-egenskaper, vilket gör det till ett idealiskt material för tillverkning av högfrekventa elektroniska enheter med hög effekt.

PECVD-process

Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) är en mycket använd teknik inom chiptillverkning. Den utnyttjar den kinetiska energin hos elektroner i plasma för att aktivera kemiska reaktioner i gasfasen och därigenom uppnå tunnfilmsavsättning.