Du kan vara säker på att köpa ICP Etching Carrier från vår fabrik och vi kommer att erbjuda dig den bästa servicen efter försäljning och snabb leverans. Semicorex wafer susceptor är gjord av kiselkarbidbelagd grafit med den kemiska ångavsättningsprocessen (CVD). Detta material har unika egenskaper, inklusive hög temperatur- och kemikaliebeständighet, utmärkt slitstyrka, hög värmeledningsförmåga och hög hållfasthet och styvhet. Dessa egenskaper gör det till ett attraktivt material för olika högtemperaturapplikationer, inklusive induktivt kopplade plasma (ICP) etsningssystem.
Vi tillhandahåller skräddarsydd service, hjälper dig att förnya med komponenter som håller längre, minskar cykeltiderna och förbättrar avkastningen.
Semicorex SiC ICP Etching Disk är inte bara komponenter; det är en viktig möjliggörare för banbrytande halvledartillverkning eftersom halvledarindustrin fortsätter sin obevekliga strävan efter miniatyrisering och prestanda, kommer efterfrågan på avancerade material som SiC bara att intensifieras. Det säkerställer den precision, tillförlitlighet och prestanda som krävs för att driva vår teknikdrivna värld. Vi på Semicorex är dedikerade till att tillverka och leverera högpresterande SiC ICP Etching Disk som förenar kvalitet med kostnadseffektivitet.**
Läs merSkicka förfråganSemicorex SiC Susceptor för ICP Etch är tillverkad med fokus på att upprätthålla höga krav på kvalitet och konsistens. De robusta tillverkningsprocesserna som används för att skapa dessa susceptorer säkerställer att varje batch uppfyller stränga prestandakriterier, vilket ger tillförlitliga och konsekventa resultat vid halvledaretsning. Dessutom är Semicorex utrustat för att erbjuda snabba leveransscheman, vilket är avgörande för att hålla jämna steg med halvledarindustrins snabba vändningskrav, vilket säkerställer att produktionstidslinjerna uppfylls utan att kompromissa med kvaliteten. Vi på Semicorex är dedikerade till att tillverka och leverera högpresterande SiC-susceptor för ICP Etch som förenar kvalitet med kostnadseffektivitet.**
Läs merSkicka förfråganSemicorex SiC-belagda ICP-komponent är designad speciellt för högtemperatur-waferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Med en fin SiC-kristallbeläggning ger våra bärare överlägsen värmebeständighet, jämn termisk enhetlighet och hållbar kemisk beständighet.
Läs merSkicka förfråganNär det kommer till waferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD är Semicorex High-Temperature SiC Coating för Plasma Etch Chambers det bästa valet. Våra bärare ger överlägsen värmebeständighet, jämn termisk enhetlighet och hållbar kemisk beständighet tack vare vår fina SiC-kristallbeläggning.
Läs merSkicka förfråganSemicorex ICP Plasma Etching Tray är konstruerad specifikt för högtemperaturwaferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Med en stabil oxidationsbeständighet vid hög temperatur på upp till 1600°C ger våra bärare jämna termiska profiler, laminära gasflödesmönster och förhindrar kontaminering eller diffusion av föroreningar.
Läs merSkicka förfråganSemicorex SiC-belagda bärare för ICP Plasma Etching System är en pålitlig och kostnadseffektiv lösning för högtemperatur-waferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Våra bärare har en fin SiC-kristallbeläggning som ger överlägsen värmebeständighet, jämn termisk enhetlighet och hållbar kemisk beständighet.
Läs merSkicka förfrågan