Vad är lågtemperaturplasmaetsning?

Plasma är materiens fjärde tillstånd, och det spelar en avgörande roll i både industriella tillämpningar och naturfenomen. Till exempel finns plasma i blixtar och genereras rikligt på solens yta, där kärntemperaturen når häpnadsväckande 13 500°C. Denna högtemperaturplasma är inte lämplig för de flesta industriella produktionsprocesser.

Å andra sidan är lågtemperaturplasma en artificiellt skapad form av plasma som använder energi, snarare än värme, för att påskynda kemiska reaktioner. Dess temperatur varierar vanligtvis från rumstemperatur till flera hundra grader Celsius, vilket gör den mycket effektiv för olika applikationer.

Steg för att generera artificiellt plasma:

1. Minska trycket i kammaren: Börja med att använda en vakuumpump för att sänka trycket i kaviteten. Att uppnå lågt tryck är viktigt för att stabilisera plasman och underlätta gasjonisering.

2. Inför processgas: Injicera specifika processgaser i kaviteten. Dessa gaser fungerar som den primära källan för partiklar i plasman.

3. Excitera plasmat: Sätt på kraft för att jonisera gasen, vilket effektivt bildar plasma.

4. Inaktivera plasmat och återställ atmosfärstrycket: När de önskade reaktionerna är klara, stäng av plasman och återställ kammaren till atmosfärstryck.

Tillämpningar av lågtemperaturplasma i halvledartillverkning:

Lågtemperaturplasma är oumbärlig vid halvledartillverkning, och tjänar kritiska funktioner vid torretsning, fysisk ångavsättning (PVD), kemisk ångavsättning (CVD), atomskiktsavsättning (ALD), jonimplantation, askning och slutpunktsdetektion. Dess mångsidighet och effektivitet gör den till ett grundläggande verktyg i branschen.

Semicorex erbjuderhögkvalitativa lösningar för plasmaetsning. Om du har några frågor eller behöver ytterligare information, tveka inte att kontakta oss.

Kontakta telefonnummer +86-13567891907

E-post: sales@semicorex.com