Det första 6-tums företaget för industrialisering av galliumoxidsubstrat

Nyligen meddelade vårt företag att företaget framgångsrikt har utvecklat en 6-tumsGalliumoxid（Ga2O3）enkristall med hjälp av gjutmetoden, och blev det första inhemska industrialiserade företaget som behärskar 6-tums tekniken för förberedelse av enkristallsubstrat av galliumoxid.

Företaget använde en självinnoverad gjutmetod för att framgångsrikt förbereda en högkvalitativ 6-tums oavsiktligt dopad och ledande galliumoxidenkristall, och bearbetade en6-tums galliumoxidsubstrat.

Jämfört med traditionella kiselkarbidhalvledarmaterial, fjärde generationens halvledarmaterialGalliumoxidhar en högre motståndsspänning, lägre kostnad och högre energibesparingseffektivitet. Med sin utmärkta prestanda och lågkostnadstillverkning,Galliumoxidanvänds främst för att förbereda kraftenheter, radiofrekvensenheter och detekteringsenheter. Det används i stor utsträckning inom järnvägstransitering, smarta nät, nya energifordon, solceller, 5G mobilkommunikation, nationellt försvar och militärindustri, etc. fältet.

Under de närmaste tio åren eller så,Galliumoxidenheter kommer sannolikt att bli konkurrenskraftiga elektroniska enheter och kommer att konkurrera direkt med kiselkarbidenheter. Dessutom tror branschen generellt att i framtiden,Galliumoxidförväntas ersättaKiselkarbidoch Gallium Nitride för att bli representanten för en ny generation av halvledarmaterial.