En kort introduktion till dummy wafers

Avancerad halvledartillverkning består av flera processsteg, inklusive tunnfilmsavsättning, fotolitografi, etsning, jonimplantation, kemisk mekanisk polering. Under denna process kan även små brister i processen ha en skadlig effekt på prestandan och tillförlitligheten hos de slutliga halvledarchipsen. Därför är det en betydande utmaning att upprätthålla processstabilitet och konsistens, samt att genomföra effektiv utrustningsövervakning. Dummy wafers är avgörande verktyg som hjälper till att hantera dessa utmaningar.

Dummy wafers är wafers som inte bär faktiska kretsar och som inte används i den slutliga chipproduktionsprocessen. Dessaoblatkan vara helt nya, lägre kvalitet testwafers eller återvunna wafers. Till skillnad från dyra produktwafers som används för att tillverka integrerade kretsar, används de vanligtvis för olika icke-produktionsrelaterade som är väsentliga för halvledarproduktion.

Tillämpningar av dummy oblat

1. Processkvalificering och trimning

Dummy wafers används vanligtvis för testning före dessa situationer för att säkerställa processstabilitet och utrustningsprestanda, till exempel före driftsättning av ny processutrustning, efter underhåll eller komponentbyte av befintlig utrustning och under utveckling av nya processrecept. Verifieringen av utrustningens prestanda och exakta justeringar av processparametrar kan slutföras framgångsrikt genom att analysera bearbetningsresultaten på dummywafers, vilket effektivt minskar förlusten av produktwafers och minskar produktionskostnaderna för företag.

2. Utrustningskonditionering och uppvärmning

Kammarmiljön för många halvledarprocessutrustningar (t.ex. utrustning för kemisk ångavsättning (CVD), utrustning för fysisk ångavsättning (PVD) och etsmaskiner) har en betydande inverkan på bearbetningsresultaten. Till exempel måste beläggningsstatus och temperaturfördelning på kammarens innerväggar nå ett stabilt tillstånd. Dummy wafers används ofta för att konditionera processkamrarna och stabilisera den inre miljön (t.ex. temperatur, kemisk atmosfär och ytstatus) i kamrarna, vilket effektivt förhindrar processavvikelser eller defekter i den första satsen av produktwafers orsakade av att utrustningen inte fungerar i sitt optimala tillstånd.

3.Partikelövervakning och kontamineringskontroll

Halvledartillverkning har extremt höga renhetskrav; även små partiklar kan leda till spånfel. Genom att undersöka partiklarna som fäster vid ytan av de dummywafers som matas in i utrustningen, kan utrustningens renhet utvärderas. Således kan produktwafers framgångsrikt skyddas från kontaminering genom att omedelbart identifiera möjliga föroreningskällor och sätta rengörings- eller underhållsprocedurer på plats.

4.Spårfyllning för batchlikhet

För att uppnå gasflödet, temperaturfördelningen och reaktantkoncentrationen i processkammaren är full-lastdrift vanlig praxis i satsvis bearbetningsutrustning som diffusionsugnar, oxidationsugnar eller våtrengöringstankar. Dummy wafers används för att fylla de tomma slitsarna i waferbåten som inte har ett tillräckligt antal produktwafers, vilket kan minska kanteffekten och säkerställa konsekventa bearbetningsförhållanden för alla produktwafers, särskilt för de som är placerade vid waferbåtens kanter.

5. Stabilisering av processer för kemisk mekanisk polering (CMP).

Dummy wafers kan också användas i förbehandlingssteget av CMP-processen för att bibehålla processstabilitet. Förkörningstestning med dummy wafers optimerar grovheten och porositeten hos polerplattan, minimerar processosäkerheter under startstabiliseringsfasen eller övergångsfasen före avstängning, och minskar waferrepor och defekter orsakade av onormal slurrytillförsel och huvudmembranslitage.

Semicorex erbjuder kostnadseffektivaSiC dummy oblat. Om du har några frågor eller behöver ytterligare information, tveka inte att kontakta oss.

Kontakta telefonnummer +86-13567891907

E-post: sales@semicorex.com