Keramisk manipulator av aluminiumoxid

Aluminiumoxid keramisk manipulatorkallas även keramisk gaffel och waferhanteringsändeffektor av aluminiumoxid. Den är installerad på waferhanteringsroboten och motsvarar robotens hand. Den används för att bära, transportera och placera halvledarskivor.Kiselwafersär extremt känsliga för kontaminering från andra partiklar, så de hanteras vanligtvis i en vakuummiljö för att säkerställa renhet. Keramiska manipulatorer av aluminiumoxid använder undertryckssug för att ta bort wafers och transportera halvledarwafers genom armens teleskopiska, roterande och lyftande rörelser. Det finns lufthål och ventilationsspår inuti den keramiska aluminiumoxidmanipulatorn, som kan bilda ett vakuum vid pumpning av luft, så att halvledarskivorna kan adsorberas genom lätt kontakt utan att klämma eller skada halvledarskivorna.

Det är välkänt att ju renare sammansättningen avaluminiumoxid keramikär, desto högre blir dess styrka. Semicorex aluminiumoxidkeramiska manipulatorer är gjorda av aluminiumoxidkeramik med hög renhet. Detta resulterar i exceptionell mekanisk styrka och hårdhet. Deras slitstyrka överstiger vida den för stål och kromstål, vilket gör att de kan bibehålla ytnoggrannheten över tid i högfriktionsmiljöer, vilket minskar risken för waferrepor och gör dem idealiska för högprecisionshantering. Denna keramiska manipulator av aluminiumoxid har hög resistivitet. Dess enastående elektriska isoleringsegenskaper kan effektivt förhindra elektrostatiska störningar och minska risken för partikeladsorption för att bibehålla en ren skivyta. Dessutom involverar halvledartillverkningsprocessen komplexa kretsar och högspänningsmiljöer i utrustningen. Den keramiska manipulatorn av aluminiumoxid med högt motstånd blockerar effektivt strömledning, vilket säkerställer elektrisk säkerhet under hantering av halvledarskivor. Tack vare den höga temperaturbeständigheten och den termiska stabiliteten hos aluminiumoxidkeram, deformeras manipulatorn mycket lite under halvledarvärmebehandlingsprocessen, kan exakt placera wafers och undvika precisionsavvikelser orsakade av termisk deformation. Dessutom har detta material utmärkt kemisk stabilitet och är mycket motståndskraftigt mot korrosion av syror, alkalier, smälta metaller etc. Det är inte lätt att reagera med andra ämnen för att frigöra förorenande partiklar och kan effektivt skydda halvledardelar från kemisk kontaminering.