Keramiska fokusringar för halvledare

Semicorex keramikfokusrings för halvledare är de idealiska lösningarna skräddarsydda för de tuffa driftsförhållandena för plasmaetsning. Under den sofistikerade halvledaretsningsprocessen är det avgörande att exakt kontrollera plasmadistributionen, vilket kan säkerställa etsningskammarens stabilitet och konsekvent enhetlig halvledaretsning. Som de oumbärliga komponenterna som används i den avancerade etsningsutrustningen är fokusringar vanligtvis placerade runt halvledarskivorna och kommer i direkt kontakt med dem. Fokusringarnas prestanda utövar direkt inverkan på processens repeterbarhet, produktutbyte och utrustningens drifttid.

Fördelar med Semicorex keramiska fokusringar för halvledare

1. Ultrahög materialrenhet

Renheten i vårCVD SiCmaterial överstiger 99,9995 %. Detta kan effektivt förhindra kontaminering av etsningskammaren och halvledarskivorna orsakade av otillräcklig materialrenhet.

2.Exceptionell korrosionsbeständighet

Semicorex keramiska fokusringar för halvledare är tillverkade av CVD SiC, med utmärkt motståndskraft mot oxidation, erosion och kemisk korrosion, och är särskilt effektiva mot processgaser som HF och HCI, såväl som plasmagas.

3. Överlägsen motståndsprestanda

Motståndslikformigheten för Semicorex keramiska fokusringar för halvledare är mindre än 5 %.

Resistivitetsintervall: Låg upplösning. (<0,02 Ω·cm), medelupplösning. (0,2–25 Ω·cm), hög upplösning. (>100 Ω·cm).

Funktioner hos Semicorex keramiska fokusringar för halvledare

1.Kontrollera och likforma kantens elektriska fält och plasmafördelning

Semicorex keramiska fokusringar för halvledare kan styra fördelningen av det elektriska fältet inuti etsningskammaren och uppnå ett mer enhetligt plasmahölje runt halvledarskivor, vilket gör att plasma kan träffa waferytan på ett vertikalt och enhetligt sätt. På så sätt kan etsningskantseffekten reduceras avsevärt och etsningsprecisionen avsevärt förbättras.

2. Skydda den elektrostatiska chucken

Utan skyddet av fokusringar i etsningsprocessen kommer den elektrostatiska chucken att utsättas för bombardement och erosion av högenergiplasma. Elektrostatiska chuckar är gjorda av högkostnadsmaterial med extremt höga utbyteskostnader. Att använda fokusringar kan effektivt sänka plasmakorrosion på den elektrostatiska chucken och minimera underhålls- och utbyteskostnaderna för den elektrostatiska chucken.