> Nyheter > Företagsnyheter

Företagsnyheter

Plasmaprocesser i CVD-operationer

Chemical Vapor Deposition (CVD) avser en processteknik där flera gasformiga reaktanter vid olika partialtryck genomgår en kemisk reaktion under specifika temperatur- och tryckförhållanden. Den resulterande fasta substansen avsätts på ytan av substratmaterialet och erhåller därigenom den önskade tunn......

Läs mer

Kisel epitaxiella skikt och substrat i halvledartillverkning

Inom modern elektronik, optoelektronik, mikroelektronik och informationsteknologi är halvledarsubstrat och epitaxialteknologier oumbärliga. De ger en solid grund för tillverkning av högpresterande, högtillförlitliga halvledarenheter. I takt med att tekniken fortsätter att utvecklas kommer även halvl......

Läs mer

Betydelsen av porösa grafitmaterial för SiC-kristalltillväxt

Semicorex SiC-kristalltillväxtugnskomponent, det porösa grafitröret, kommer att ge tre stora fördelar och kan effektivt stärka konkurrenskraften för inhemska SiC-substrat:

Läs mer

Det första 6-tums företaget för industrialisering av galliumoxidsubstrat

Nyligen meddelade vårt företag att företaget framgångsrikt har utvecklat en 6-tums Gallium Oxide-enkristall med gjutmetoden, och blev det första inhemska industrialiserade företaget som behärskar 6-tums Gallium Oxide-enkristallsubstratberedningstekniken.

Läs mer

Termiskt fältisoleringsmaterial

Processen med monokristallin kiseltillväxt sker huvudsakligen inom ett termiskt fält, där kvaliteten på den termiska miljön avsevärt påverkar kristallkvaliteten och tillväxteffektiviteten. Utformningen av det termiska fältet spelar en avgörande roll för att forma temperaturgradienter och gasflödesdy......

Läs mer

Vad är SiC-belagd grafitsusceptor?

För att introducera den SiC-belagda grafitsusceptorn är det viktigt att förstå dess tillämpning. Vid tillverkning av anordningar måste ytterligare epitaxiella skikt byggas på vissa wafersubstrat.

Läs mer

<...4 5 6 7 8...9 >