Fokuseringsring av massiv kiselkarbid

Semicorex Solid Silicon Carbide Focusing Ring är en central komponent i halvledartillverkning, strategiskt placerad utanför wafern för att upprätthålla direktkontakt. Genom att använda en applicerad spänning fokuserar denna ring plasman som passerar den, och förbättrar därigenom processlikheten på skivan. Konstruerad enbart av Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide (CVD SiC), förkroppsligar denna fokusring de exceptionella kvaliteter som efterfrågas av halvledarindustrin. Vi på Semicorex är dedikerade till att tillverka och leverera högpresterande Solid Silicon Carbide Focusing Ring som förenar kvalitet med kostnadseffektivitet.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

I halvledartillverkning tjänar Semicorex Solid Silicon Carbide Focusing Ring en avgörande roll genom att fungera som en sköld och bevara waferns integritet under etsningsprocessen. Dess minutiöst konstruerade design säkerställer exakt och enhetlig etsning, vilket underlättar produktionen av mycket intrikata halvledarelement som uppvisar överlägsen prestanda och tillförlitlighet.

Kiselkarbid är det valda materialet för fokuseringsringen på grund av dess överlägsna motståndskraft mot plasmakorrosion när den exponeras för plasma i vakuumreaktionskammaren. Fokusringen av massiv kiselkarbid överträffar traditionellt kisel i flera aspekter, inklusive:

(1) Hög densitet som minimerar etsningshastigheter.

(2) Överlägsen bandgap och utmärkta isoleringsegenskaper.

(3) Exceptionell värmeledningsförmåga, låg värmeutvidgningskoefficient och värmechockbeständighet.

(4) Hög elasticitet i kombination med utmärkt motståndskraft mot mekaniska stötar.

(5) Enastående hårdhet, slitstyrka och korrosionsbeständighet.

Kiselkarbids konduktivitet och motstånd mot jonetsning är besläktad med kisel, vilket gör Solid Silicon Carbide Focusing Ring till ett idealiskt material för denna applikation.

Semicorex Solid Silicon Carbide Focusing Ring står som en toppmodern lösning inom halvledartillverkningen. Den utnyttjar de unika egenskaperna hos CVD SiC för att underlätta tillförlitliga, högpresterande etsningsprocesser, vilket väsentligt bidrar till utvecklingen av halvledarteknologi.