AlN Keramisk skiva

AlN Ceramic Discs värmeledningsförmåga sträcker sig mellan 170 och 220 W/m.K. Denna värmeledningsförmåga är betydligt högre – 5 till 8,5 gånger högre – än den för traditionell aluminiumoxidkeramik, vilket gör AlN Ceramic Discs idealiska för applikationer där effektiv värmeavlägsning är avgörande. Detta gör dem särskilt värdefulla inom elektronikindustrin, där avledning av värme är avgörande för att bibehålla prestanda och livslängd hos elektroniska enheter.

Termisk expansionskoefficient för AlN Ceramic Discs liknar den för kisel (Si), som spelar en avgörande roll för att säkerställa tillförlitligheten hos kiselchips. Denna likhet hjälper till att minimera termisk stress under temperaturfluktuationer, och förbättrar därigenom hållbarheten och prestandan hos Si-baserade elektroniska komponenter. Denna egenskap är särskilt fördelaktig i högprecisionstillämpningar där termisk expansionsfel kan leda till fel eller minskad effektivitet.

AlN Ceramic Discs är också kända för sin höga isolationsresistans och spänningsresistans. Trots dessa höga isoleringsegenskaper bibehåller de en låg dielektricitetskonstant och dielektrisk förlust, vilket gör dem idealiska för applikationer inom elektronikområdet där elektrisk isolering och effektiv signalöverföring krävs. Dessa egenskaper gör att AlN Ceramic Discs kan användas i högfrekventa kommunikationsenheter, vilket säkerställer optimal prestanda och minimal energiförlust.

Den mekaniska styrkan hos AlN Ceramic Discs är en annan viktig fördel. Med en mekanisk hållfasthet som når upp till 450 MPa har dessa skivor en mycket tät keramisk kropp som är fri från porositet, vilket förbättrar deras strukturella integritet och motståndskraft mot mekanisk påkänning. Denna robusthet säkerställer att AlN Ceramic Discs kan motstå krävande applikationer utan att kompromissa med deras prestanda eller tillförlitlighet.

En annan övertygande egenskap hos AlN Ceramic Discs är deras renhet, som kan nå upp till 99 %. Denna höga renhetsnivå säkerställer att materialet är fritt från föroreningar och uppfyller stränga säkerhets- och miljöföreskrifter som RoHS och REACH. Den giftfria naturen hos AlN keramiska skivor gör dem lämpliga för ett brett spektrum av applikationer, inklusive de där materialsäkerhet är en kritisk fråga.

I samband med halvledartillverkning uppvisar AlN Ceramic Discs utmärkt plasmaresistens. Under halvledarbearbetning används flyktiga prekursorgaser, plasma och höga temperaturer för att avsätta tunna filmer av hög kvalitet på wafers. Hållbarheten hos AlN Ceramic Discs gör att de tål dessa tuffa miljöer, vilket gör dem perfekta för användning i deponeringskammare och waferhanteringsverktyg.

AlN keramiska skivor kan användas i olika branscher. Inom elektronikområdet fungerar de som substrat för elektroniska enheter med hög effekt, där deras värmeledningsförmåga och elektriska isoleringsegenskaper är kritiska. De används också som kylflänsar för högeffekts-LED, vilket effektivt hanterar värmeavledning för att säkerställa optimal prestanda och livslängd.

Förutom elektronik används AlN Ceramic Discs i högfrekventa kommunikationsenheter på grund av deras gynnsamma termiska och elektriska egenskaper. Deras tillämpning sträcker sig till lasersystem och mikrovågskomponenter, där deras förmåga att hantera hög effekt och bibehålla signalintegritet är oumbärlig.

Dessutom används AlN Keramiska skivor som skärverktyg och utnyttjar deras utmärkta termiska och mekaniska egenskaper för att motstå de höga påfrestningar och temperaturer som är involverade i skäroperationer. Deras förmåga att bibehålla skärpa och hållbarhet under extrema förhållanden gör dem till ett föredraget val för precisionsskärning.