CVD SiC-belagda ugnsrör

Semicorex CVD SiC-belagdugnsrörär processrör med stor diameter som ger en stabil reaktionskammare för högtemperaturbehandling av halvledarskivor. De är gjorda för att fungera i atmosfärer som innehåller syre (reaktantgas), kväve (skyddsgas) och små mängder väteklorid, med en stabil driftstemperatur på cirka 1250 grader Celsius.

Fördelen med Semicorex CVD SiC-belagda ugnsrör

1. Avancerad formningsteknik och flexibel anpassningstillverkning

Formad via 3D-utskriftsteknik, SemicorexCVD SiCBelagda ugnsrör har en sömlös, integrerad keramisk struktur utan några svaga områden. Denna formningsteknik garanterar exceptionell gastät försegling, som effektivt förhindrar externa föroreningar och upprätthåller den erforderliga temperaturen, trycket och atmosfäriska miljöerna för bearbetning av halvledarskivor.

Dessutom stödjer 3D-utskriftstekniken produktionen av komplexa former och den exakta dimensionskontrollen. Specialtillverkningen är tillgänglig för diameter, längd, väggtjocklek och toleranser enligt olika krav för att säkerställa full kompatibilitet med kundernas vertikala eller horisontella ugnar.

2. Noggrant materialval och renhetskontroll

Semicorex CVD SiC-belagda ugnsrör är tillverkade av noggrant utvalda högrent material av halvledarkvalitet. Föroreningshalten i deras matris kontrolleras till under 300 PPM och föroreningshalten i CVD SiC-beläggning är begränsad till mindre än 5 PPM. Denna stränga renhetskontroll minskar avsevärt waferkontamination orsakad av metallföroreningar som fälls ut under driftförhållanden vid hög temperatur, vilket avsevärt förbättrar utbytet och prestandan hos de slutliga halvledaranordningarna. Dessutom förbättrar användningen av CVD SiC-beläggning högtemperaturbeständigheten, den kemiska korrosionsbeständigheten och den termiska stabiliteten hos Semicorex CVD SiC-belagda ugnsrör, vilket avsevärt förlänger deras livslängd under svåra driftsförhållanden.

Med så många fördelar kan Semicorex CVD SiC-belagda ugnsrör ge ett stabilt, lämpligt och ultrarent reaktionsutrymme för bearbetning av halvledarskivor. Den konsekventa temperaturfördelningen och den stadiga gasatmosfären inuti ugnarna, möjliggjort av Semicorex CVD SiC-belagda ugnsrör, hjälper till att uppnå mer exakt dopningsdiffusion, termisk oxidation, glödgning och tunnfilmsavsättning.