Horisontell SiC Wafer Boat

En avgörande egenskap hos Semicorex Horizontal SiC Wafer Boat är dess noggrant designade slitsade arkitektur, speciellt skräddarsydd för att säkert hålla wafers på plats under olika högtemperaturprocesser. Denna exakta wafer-begränsning har flera viktiga funktioner:

Eliminering av skivans rörelse:Genom att förhindra oönskad glidning eller förskjutning säkerställer Horizontal SiC Wafer Boat konsekvent exponering för processgaser och temperaturprofiler, vilket bidrar till mycket enhetlig waferbearbetning och minimerar risken för defekter.

Förbättrad processuniformitet:Konsekvent waferpositionering leder direkt till överlägsen enhetlighet i kritiska parametrar som skikttjocklek, dopningskoncentrationer och ytmorfologi. Denna precision är särskilt avgörande i applikationer som kemisk ångavsättning (CVD) och diffusion, där även små variationer kan påverka enhetens prestanda avsevärt.

Minskad waferskada:Det säkra greppet på den horisontella SiC Wafer Boat minimerar risken för wafer-flisning, brott eller repor under hantering och transport, vilket är avgörande för att bibehålla hög avkastning och minska tillverkningskostnaderna.

Utöver deras precisionsdesign erbjuder Horizontal SiC Wafer Boat en övertygande kombination av materialegenskaper som gör den idealisk för halvledar- och solcellstillverkning:

Extrem temperaturbeständighet: Den horisontella SiC Wafer Boat uppvisar exceptionell hållfasthet och stabilitet vid hög temperatur, vilket gör att den kan motstå de extrema termiska förhållanden som uppstår under processer som kristalltillväxt, glödgning och snabb termisk bearbetning (RTP) utan deformation eller nedbrytning.

Ultrahög renhet för kontamineringskontroll:Användningen av högrent SiC säkerställer minimal avgasning eller generering av partiklar, skyddar integriteten hos känsliga waferytor och förhindrar kontaminering som kan äventyra enhetens prestanda.

Exceptionell kemisk stabilitet:SiC:s inneboende tröghet gör Horizontal SiC Wafer Boat mycket motståndskraftig mot angrepp från korrosiva gaser och kemikalier som vanligtvis används vid tillverkning av halvledar- och solcellsanläggningar. Denna robusta kemiska stabilitet säkerställer en lång livslängd och minimerar risken för korskontaminering mellan processkörningar.

Mångsidigheten och prestandafördelarna med Horizontal SiC Wafer Boat har lett till dess omfattande användning i en rad kritiska tillverkningsprocesser för halvledar- och solceller:

Epitaxiell tillväxt:Exakt waferpositionering och temperaturlikformighet är avgörande för att uppnå epitaxiella skikt av hög kvalitet i avancerade halvledarenheter, vilket gör Horizontal SiC Wafer Boat till ett viktigt verktyg för denna process.

Diffusion och jonimplantation:Noggrann dopningskontroll är avgörande för att definiera de elektriska egenskaperna hos halvledarenheter. Den horisontella SiC Wafer Boat säkerställer exakt waferpositionering under dessa processer, vilket leder till förbättrad enhetlighet och enhetsprestanda.

Tillverkning av solceller:Högtemperaturkapaciteten och den kemiska motståndskraften hos Horizontal SiC Wafer Boat gör den idealisk för bearbetning av kiselskivor som används i solcellsceller, vilket bidrar till ökad effektivitet och livslängd för solenergisystem.