Produkter

Semicorex är en professionell tillverkare och leverantör i Kina. Vår fabrik tillhandahåller fatsusceptor, mocvd-susceptor, wafer-båt, etc. Extrem design, kvalitetsråmaterial, hög prestanda och konkurrenskraftigt pris är vad varje kund vill ha, och det är också vad vi kan erbjuda dig. Vi tar hög kvalitet, rimligt pris och perfekt service.

View as

Högtemperatur SiC-beläggning för plasmaetsningskammare

När det kommer till waferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD är Semicorex High-Temperature SiC Coating för Plasma Etch Chambers det bästa valet. Våra bärare ger överlägsen värmebeständighet, jämn termisk enhetlighet och hållbar kemisk beständighet tack vare vår fina SiC-kristallbeläggning.

Läs mer Skicka förfrågan

ICP Plasma Etsningsbricka

Semicorex ICP Plasma Etching Tray är konstruerad specifikt för högtemperaturwaferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Med en stabil oxidationsbeständighet vid hög temperatur på upp till 1600°C ger våra bärare jämna termiska profiler, laminära gasflödesmönster och förhindrar kontaminering eller diffusion av föroreningar.

Läs mer Skicka förfrågan

ICP plasmaetsningssystem

Semicorex SiC-belagda bärare för ICP Plasma Etching System är en pålitlig och kostnadseffektiv lösning för högtemperatur-waferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Våra bärare har en fin SiC-kristallbeläggning som ger överlägsen värmebeständighet, jämn termisk enhetlighet och hållbar kemisk beständighet.

Läs mer Skicka förfrågan

Induktivt kopplat plasma (ICP)

Semicorex kiselkarbidbelagda susceptor för induktivt kopplad plasma (ICP) är designad speciellt för högtemperatur-waferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Med en stabil oxidationsbeständighet vid hög temperatur på upp till 1600°C säkerställer våra bärare jämna termiska profiler, laminära gasflödesmönster och förhindrar kontaminering eller diffusion av föroreningar.

Läs mer Skicka förfrågan

ICP Etching Wafer Hållare

Semicorex's ICP-etsningswaferhållare är den perfekta lösningen för högtemperaturwaferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Med en stabil oxidationsbeständighet vid hög temperatur på upp till 1600°C säkerställer våra bärare jämna termiska profiler, laminära gasflödesmönster och förhindrar kontaminering eller diffusion av föroreningar.

Läs mer Skicka förfrågan

ICP Etsningsbärarplatta

Semicorex ICP Etching Carrier Plate är den perfekta lösningen för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt ger överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och laminära gasflödesmönster. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.

Läs mer Skicka förfrågan

<...90 91 92 93 94...99 >