Semicorex ICP Silicon Carbon Coated Graphite är det idealiska valet för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt har överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och optimala laminära gasflödesmönster.
Läs merSkicka förfråganSemicorex ICP Plasma Etching Plate ger överlägsen värme- och korrosionsbeständighet för waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt är konstruerad för att tåla höga temperaturer och hård kemisk rengöring, vilket säkerställer hållbarhet och livslängd. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.
Läs merSkicka förfrågan