SiC-belagd epitaxiskiva

Det finns omfattande egenskaper hos Semicorex SiC Coated Epitaxy Disc som gör den till en oumbärlig komponent i halvledartillverkning, där utrustningens precision, hållbarhet och robusthet är avgörande för framgången för högteknologiska halvledarenheter. Vi på Semicorex är dedikerade till att tillverka och leverera högpresterande SiC-belagda epitaxiskivor som förenar kvalitet med kostnadseffektivitet.**

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Semicorex SiC Coated Epitaxy Disc har en rad oöverträffade fördelar inom halvledarindustrin, som kan utvecklas ytterligare enligt följande:

Låg termisk expansionskoefficient: Den SiC-belagda epitaxiskivan har en anmärkningsvärt låg värmeutvidgningskoefficient, vilket är avgörande vid halvledarbearbetning där dimensionsstabilitet är avgörande. Detta attribut säkerställer att den SiC-belagda epitaxiskivan genomgår minimal expansion eller sammandragning under temperaturvariationer, vilket bibehåller integriteten hos halvledarstrukturen under högtemperaturprocesser.

Oxidationsbeständighet vid hög temperatur: Konstruerad med enastående oxidationsbeständighet, denna SiC-belagda epitaxiskiva behåller sin strukturella integritet vid förhöjda temperaturer, vilket gör den till en idealisk komponent för applikationer inom högtemperaturhalvledarprocesser där termisk stabilitet är avgörande.

Tät och finporös yta: Ytan på den SiC-belagda epitaxiskivan kännetecknas av dess densitet och fina porositet, vilket ger en optimal ytstruktur för vidhäftning av olika beläggningar och säkerställer effektivt materialavlägsnande under halvledarwaferbehandling utan att skada den ömtåliga ytan.

Hög hårdhet: Beläggningen ger en hög nivå av hårdhet till grafitskivan, som är resistent mot repor och slitage, vilket förlänger livslängden för SiC Coated Epitaxy Disc och minskar utbytesfrekvensen i halvledartillverkningsmiljöer.

Motståndskraft mot syror, baser, salter och organiska reagenser: SiC-belagda epitaxiskivans CVD SiC-beläggning erbjuder utmärkt motståndskraft mot ett brett utbud av frätande ämnen, inklusive syror, baser, salter och organiska reagenser, vilket gör den lämplig för användning i miljöer där kemisk exponering är ett problem, vilket förbättrar utrustningens tillförlitlighet och livslängd.

Beta-SiC Ytskikt: Ytskiktet SIC (kiselkarbid) på SiC Coated Epitaxy Disc består av beta-SiC, som har en ansiktscentrerad kubisk (FCC) kristallstruktur. Denna kristallstruktur bidrar till beläggningens exceptionella mekaniska och termiska egenskaper, och erbjuder överlägsen styrka och värmeledningsförmåga till skivan, vilket är viktigt för halvledarbearbetningsutrustning.