Semicorex SOI Wafers representerar ett avgörande framsteg inom detta område och erbjuder många fördelar jämfört med traditionella kiselwafers. På Semicorex är vi stolta över att tillverka och leverera SOI-wafers som uppfyller de rigorösa kraven från moderna halvledarapplikationer.*
Semicorex SOI Wafers är en specialiserad typ av substrat som används vid tillverkning av halvledarenheter. Till skillnad från konventionella kiselskivor har SOI-skivor ytterligare ett isolerande skikt, vanligtvis tillverkat av kiseldioxid (SiO2), som separerar ett tunt kiselskikt från bulksilikonsubstratet. Denna unika struktur möjliggör betydande förbättringar av enhetens prestanda, energieffektivitet och tillförlitlighet, vilket gör SOI-wafers till en viktig komponent i produktionen av avancerad mikroelektronik, telekommunikation och högpresterande datorsystem.
Sammansättning och struktur
SOI-wafers består av tre huvudlager:
Översta kiselskiktet:Det översta lagret är ett tunt, högkvalitativt silikonlager där de aktiva enheterna, som transistorer, tillverkas. Tjockleken på detta lager kan variera beroende på den specifika applikationen men varierar vanligtvis från några nanometer till flera mikrometer.
Begravt oxidskikt (BOX):Detta är det isolerande skiktet av kiseldioxid (SiO2), som elektriskt isolerar det översta kiselskiktet från bulksubstratet. Tjockleken på BOX-skiktet kan också variera men är vanligtvis mellan 100 nm och 2 µm. Denna isolering spelar en avgörande roll för att minska parasitisk kapacitans, vilket förbättrar enhetens övergripande prestanda.
Silikonsubstrat:Det undre lagret är bulksilikonet, som ger mekaniskt stöd till wafern. Substratet kan vara standardkisel eller ett mer specialiserat material beroende på slutproduktens specifika krav.
Tjockleken och sammansättningen av varje lager kan anpassas för att möta de exakta behoven för olika applikationer, vilket gör SOI-wafers mycket mångsidiga och anpassningsbara till ett brett utbud av halvledarteknologier.
Tillämpningar av SOI Wafers
SOI-wafers används inom ett brett spektrum av industrier och applikationer, särskilt i områden där hög prestanda, låg strömförbrukning och tillförlitlighet är av största vikt. Några nyckelapplikationer inkluderar:
Mikroprocessorer och HPC (High-Performance Computing): SOI-wafers används ofta vid tillverkning av höghastighetsmikroprocessorer och HPC-system, där den reducerade parasitiska kapacitansen och förbättrade värmehanteringen bidrar till snabbare bearbetningshastigheter och lägre strömförbrukning.
Telekommunikation: Möjligheten att arbeta vid höga frekvenser med minimal signalförlust gör SOI-wafers idealiska för RF (radiofrekvens) och blandade signalapplikationer, som är kritiska i telekommunikationsutrustning, inklusive 5G-infrastruktur.
Bilelektronik: Inom bilindustrin används SOI-skivor för att producera sensorer, mikrokontroller och andra elektroniska komponenter som kräver hög tillförlitlighet och motståndskraft mot tuffa driftsförhållanden, såsom extrema temperaturer och strålning.
Konsumentelektronik: Efterfrågan på bärbara, batteridrivna enheter som smartphones, surfplattor och wearables har drivit antagandet av SOI-teknik på grund av dess energieffektivitet och förmåga att leverera hög prestanda i en kompakt formfaktor.
Flyg och försvar: Strålningshårdheten och tillförlitligheten hos SOI-skivor gör dem idealiska för användning i rymd- och försvarstillämpningar, där enheter måste tåla extrema miljöförhållanden, inklusive höga nivåer av strålning och temperaturfluktuationer.
Semicorex SOI-wafers representerar ett betydande framsteg inom halvledarteknologi, och erbjuder många fördelar jämfört med traditionella kiselwafers. Deras förmåga att minska strömförbrukningen, förbättra enhetens prestanda och möjliggöra mer aggressiv skalning gör dem till en kritisk komponent i utvecklingen av nästa generations elektroniska enheter. På Semicorex är vi dedikerade till att tillhandahålla högkvalitativa SOI-wafers som uppfyller de stränga kraven från våra kunder inom olika branscher. Med vårt engagemang för innovation och kvalitet fortsätter vi att tänja på gränserna för halvledarteknik, vilket möjliggör skapandet av snabbare, mindre och mer effektiva elektroniska enheter för framtiden.