Wafer Carrier för MOCVD

Semicorex Wafer Carrier för MOCVD, skapad för de exakta behoven av Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), framstår som ett oumbärligt verktyg vid bearbetning av enkristall Si eller SiC för integrerade kretsar i hög skala. Wafer Carrier för MOCVD-kompositionen har oöverträffad renhet, motståndskraft mot förhöjda temperaturer och korrosiva miljöer och överlägsna tätningsegenskaper för att bibehålla en orörd atmosfär. Vi på Semicorex är dedikerade till att tillverka och leverera högpresterande waferbärare för MOCVD som förenar kvalitet med kostnadseffektivitet.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Semicorex Wafer Carrier för MOCVD:s avancerade design för MOCVD-applikationer fungerar som en säker grund, sakkunnigt konstruerad för att vagga halvledarwafers. Den erbjuder en optimerad design som säkerställer ett tätt grepp om wafers samtidigt som det underlättar en optimal fördelning av gaser för enhetlig materialskiktning. Förbättrad med en Silicon Carbide (SiC) beläggning genom Chemical Vapor Deposition (CVD), kombinerar Wafer Carrier för MOCVD grafitens motståndskraft med CVD SiC:s egenskaper för att tåla höga temperaturer, har en försumbar termisk expansionskoefficient och främjar utjämnad värmespridning. Denna jämvikt är avgörande för att bevara integriteten hos skivornas yttemperatur.

Med egenskaper som korrosionsinhibering, kemisk motståndskraft och följaktligen en förlängd livslängd, höjer Wafer Carrier för MOCVD avsevärt både kalibern och utbytet av wafers. Dess hållbarhet ger en direkt ekonomisk fördel, vilket positionerar Wafer Carrier för MOCVD som ett klokt inköpsval för din halvledarproduktion.

Semicorex Wafer Carrier för MOCVD är noggrant skräddarsydd för de epitaxiella procedurerna för wafers och utmärker sig i säker transport av wafers i högtemperaturugnar. Dess hållbara ram säkerställer att wafers förblir intakta, vilket minskar benägenheten för skador under de kritiska epitaxiella tillväxtstadierna.**