Rengöringstank

Semicorex rengöringstank är tillverkad av högkvalitativ kvarts, erbjuder oöverträffad prestanda och tillförlitlighet, vilket säkerställer att halvledarwafers är noggrant rengjorda och fria från föroreningar som kan äventyra deras integritet.

Kvarts är vald för konstruktionen av rengöringstanken på grund av dess exceptionella kemikaliebeständighet och termiska stabilitet. Kvartsrengöringstank motstår de hårda kemikalier som vanligtvis används i rengöringsprocesser, såsom fluorvätesyra och andra starka etsmedel. Dess termiska stabilitet säkerställer att den kan motstå de höga temperaturer som ofta krävs vid halvledarbearbetning utan att deformeras eller försämras, vilket bibehåller dess strukturella integritet och prestanda under långa perioder.

Rengöringstankens design är noggrant konstruerad för att optimera rengöringsprocessen. Dess släta, sömlösa insida minimerar partikelbildning och förhindrar ansamling av föroreningar. Rengöringstanken är utformad för att rymma olika rengöringsmetoder, inklusive kemiska bad, ultraljudsrengöring och megaljudsrengöring. Varje metod har sina specifika fördelar, och rengöringstankens mångsidighet gör att den kan användas i flera steg av rengöringsprocessen, från initial rengöring av skivor till slutlig sköljning och torkning.

I kemiska bad säkerställer rengöringstanken att wafers utsätts jämnt för rengöringslösningar, vilket främjar konsekvent och grundlig rengöring. Den enhetliga exponeringen är avgörande för att avlägsna partiklar, organiska rester och metalliska föroreningar från skivans yta. Vid ultraljuds- och megaljudsrengöring skapar högfrekventa ljudvågor mikroskopiska kavitationsbubblor i rengöringslösningen. När dessa bubblor kollapsar genererar de kraftfulla stötvågor som lossnar och tar bort föroreningar från skivans yta. Rengöringstankens robusta kvartskonstruktion klarar de intensiva förhållanden som genereras av dessa rengöringsmetoder, vilket säkerställer långvarig hållbarhet och effektivitet.