Hem > Produkter > Silikonkarbidbelagd > ICP Etsningsbärare > ICP Plasma Etching System för PSS Process
ICP Plasma Etching System för PSS Process

ICP Plasma Etching System för PSS Process

Välj Semicorex ICP Plasma Etching System för PSS Process för högkvalitativa epitaxi- och MOCVD-processer. Vår produkt är speciellt framtagen för dessa processer och erbjuder överlägsen värme- och korrosionsbeständighet. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Semicorex ICP Plasma Etching System för PSS Process ger utmärkt värme- och korrosionsbeständighet för waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår fina SiC-kristallbeläggning erbjuder en ren och slät yta, vilket säkerställer optimal hantering av orörda wafers.

På Semicorex fokuserar vi på att tillhandahålla högkvalitativa, kostnadseffektiva produkter till våra kunder. Vårt ICP plasmaetsningssystem för PSS-process har en prisfördel och exporteras till många europeiska och amerikanska marknader. Vi strävar efter att vara din långsiktiga partner som levererar konsekventa kvalitetsprodukter och exceptionell kundservice.

Kontakta oss idag för att lära dig mer om vårt ICP Plasma Etching System för PSS Process.


Parametrar för ICP Plasma Etching System för PSS Process

Huvudspecifikationer för CVD-SIC-beläggning

SiC-CVD-egenskaper

Kristallstruktur

FCC β fas

Densitet

g/cm³

3.21

Hårdhet

Vickers hårdhet

2500

Kornstorlek

μm

2~10

Kemisk renhet

%

99.99995

Värmekapacitet

J·kg-1 ·K-1

640

Sublimeringstemperatur

2700

Felexural styrka

MPa (RT 4-punkts)

415

Youngs modul

Gpa (4pt böj, 1300â)

430

Termisk expansion (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Värmeledningsförmåga

(W/mK)

300


Funktioner hos ICP Plasma Etching System för PSS Process

- Undvik att skala av och säkerställ beläggning på alla ytor

Oxidationsbeständighet vid hög temperatur: Stabil vid höga temperaturer upp till 1600°C

Hög renhet: tillverkad av CVD kemisk ångavsättning under högtemperaturkloreringsförhållanden.

Korrosionsbeständighet: hög hårdhet, tät yta och fina partiklar.

Korrosionsbeständighet: syra, alkali, salt och organiska reagenser.

- Uppnå det bästa laminära gasflödesmönstret

- Garanterar jämnhet av termisk profil

- Förhindra all kontaminering eller spridning av föroreningar





Hot Tags: ICP plasmaetsningssystem för PSS-process, Kina, tillverkare, leverantörer, fabrik, anpassad, bulk, avancerad, hållbar

Relaterad kategori

Skicka förfrågan

Lämna gärna din förfrågan i formuläret nedan. Vi kommer att svara dig inom 24 timmar.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept