Semicorex SiC-belagda bärare för ICP Plasma Etching System är en pålitlig och kostnadseffektiv lösning för högtemperatur-waferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Våra bärare har en fin SiC-kristallbeläggning som ger överlägsen värmebeständighet, jämn termisk enhetlighet och hållbar kemisk beständighet.
Läs merSkicka förfråganSemicorex waferhållare för ICP Etching Process är det perfekta valet för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt har överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och optimala laminära gasflödesmönster för konsekventa och tillförlitliga resultat.
Läs merSkicka förfråganSemicorex Silicon Etch Plate för PSS Etching Applications är en högkvalitativ, ultraren grafitbärare som är speciellt designad för epitaxiell tillväxt och waferhanteringsprocesser. Vår bärare tål hårda miljöer, höga temperaturer och hård kemisk rengöring. Silikonetsplåten för PSS-etsningstillämpningar har utmärkta värmefördelningsegenskaper, hög värmeledningsförmåga och är kostnadseffektiv. Våra produkter används i stor utsträckning på många europeiska och amerikanska marknader, och vi ser fram emot att bli din långsiktiga partner i Kina.
Läs merSkicka förfrågan