6 tum SiC båt

Semicorex 6 Inch SiC Boat är en avancerad waferbärare designad för att optimera prestandan och effektiviteten av högtemperaturhalvledarbearbetning, speciellt för applikationer som oxidation, diffusion och andra termiska processer. Tillverkad av högkvalitativ kiselkarbid (SiC), erbjuder denna produkt en robust lösning för att hålla kvar halvledarskivor under kritiska högtemperaturoperationer, vilket ger överlägsen termisk stabilitet, utmärkt korrosionsbeständighet och minimala kontamineringsrisker.

6-tums SiC-båten är tillverkad av kiselkarbid med hög renhet (SiC), ett material känt för sina enastående termiska egenskaper, kemikaliebeständighet och hållbarhet i tuffa miljöer. SiC används i stor utsträckning inom halvledartillverkning på grund av sin höga smältpunkt (cirka 2 700°C), vilket gör den idealisk för högtemperaturapplikationer såsom waferbearbetning i oxidations- och diffusionsugnar. Båtens design säkerställer utmärkt strukturell integritet och enhetlig värmefördelning, vilket är avgörande för att uppnå konsekventa resultat i halvledarkristalltillväxt, oxidation och andra termiska behandlingar.

Nyckelfunktioner och fördelar

Hög termisk stabilitet

SiC:s exceptionella värmeledningsförmåga säkerställer att 6-tums SiC-båten kan motstå extrema temperaturer utan att deformeras eller försämras. Denna egenskap är särskilt värdefull under oxidations- och diffusionsprocesser, där exakt temperaturkontroll är avgörande för konsekvent waferbearbetning.

Utmärkt kemisk beständighet

Kiselkarbidens inneboende motståndskraft mot kemisk korrosion gör båten idealisk för användning i miljöer där exponering för aggressiva gaser, såsom syre, kväve eller andra reaktiva ämnen, är vanligt. Båten bibehåller sin strukturella integritet och prestanda i kemiskt reaktiva miljöer med hög temperatur, vilket minskar sannolikheten för kontaminering.

Hållbarhet vid hög temperatur

6-tums SiC-båten är konstruerad för att fungera i temperaturer upp till 1 500°C, ett krav för många högtemperaturhalvledarprocesser, inklusive oxidation och diffusion. Denna höga temperaturtolerans säkerställer en lång livslängd även i krävande applikationer.

Låg föroreningsrisk

En av de kritiska faktorerna vid halvledarbearbetning är att minimera kontaminering av skivans yta. SiC:s låga föroreningsnivåer och icke-reaktiva karaktär säkerställer att 6-tums SiC-båten bidrar till en ren och kontrollerad miljö, och minskar därmed risken för oönskad kontaminering under bearbetningen.

Uniform Wafer Support

Båtens design säkerställer att wafers stöds jämnt, bibehåller optimal waferinriktning och förhindrar hängning eller felinriktning under högtemperaturbearbetning. Detta enhetliga stöd är viktigt för att säkerställa konsekventa resultat och förhindra waferdefekter.

Anpassningsalternativ

6-tums SiC-båten kan anpassas för att passa specifika kundkrav, inklusive skräddarsydda storlekar, former och konfigurationer för olika wafertyper. Oavsett om den används för oxidation, diffusion eller andra termiska processer kan båten optimeras för kundens specifika processflöde.

Tillämpningar inom halvledartillverkning

6-tums SiC-båten används främst i termiska processer med hög temperatur vid halvledartillverkning. Den är särskilt effektiv i oxidations- och diffusionsugnar, där exakt kontroll av temperatur och atmosfär krävs för framgångsrik bearbetning av wafer.

• Oxidationsprocess: Under oxidationsprocessen utsätts kiselskivor för syre vid förhöjda temperaturer för att bilda ett tunt kiseldioxidskikt på skivans yta. 6-tums SiC-båten säkerställer att skivorna hålls säkert och jämnt under denna högtemperaturprocess, vilket förhindrar deformation eller felinriktning och säkerställer enhetlig tillväxt av oxidskikt.
• Diffusionsprocess: I diffusionsprocessen införs dopämnen i kiselskivan för att modifiera dess elektriska egenskaper. SiC-båten ger ett stabilt och pålitligt stöd för wafers under detta kritiska steg, där höga temperaturer och exakt kontroll av diffusionsmiljön är av största vikt. Dess utmärkta termiska stabilitet säkerställer jämn uppvärmning, vilket är avgörande för att uppnå den önskade dopningsprofilen.
• Andra högtemperaturapplikationer: Utöver oxidation och diffusion kan 6-tums SiC-båten användas i andra högtemperaturprocesser, såsom glödgning, nitridering och epitaxiell tillväxt. Dess höga värmeledningsförmåga och motståndskraft mot värmechock gör den till en mångsidig lösning för olika stadier av tillverkning av halvledarenheter.

Fördelar framför andra material

Jämfört med traditionella material som kvarts eller grafit erbjuder kiselkarbid betydande fördelar vid halvledartillverkning. Kvartsbåtar är mer mottagliga för termisk chock och kemiska reaktioner, medan grafitbåtar kan avgasa och införa föroreningar. SiC-båtar, å andra sidan, bibehåller sin prestanda i tuffa miljöer utan risker för kontaminering, termisk instabilitet eller nedbrytning. Detta gör 6-tums SiC-båten till ett mer pålitligt och effektivt val för högtemperaturhalvledarbearbetning.

Semicorex 6 Inch SiC Boat är en kritisk komponent i halvledarindustrin, som ger den nödvändiga stabiliteten, kemiska motståndskraften och termiska prestanda som krävs för avancerad waferbearbetning. Dess höga värmeledningsförmåga, motståndskraft mot kemisk korrosion och minimal föroreningsrisk gör den till det idealiska valet för oxidation, diffusion och andra högtemperaturhalvledarprocesser. Oavsett om den används i forskning och utveckling eller storskalig produktion, levererar 6-tums SiC-båten den prestanda och tillförlitlighet som krävs för att säkerställa högsta kvalitetsresultat vid halvledartillverkning.