Monokristallint kiselplan mål

Monokristallint kiselplana mål bearbetas vanligtvis av högprecisionsskärutrustning från monokristallina kiselgöt tillverkade med Czochralski-metoden. För att möta diversifieringen av kundernas behov kan monokristallint kiselplan skäras till önskade former för dina uppskattade kunder. Den exakta slip- och poleringstekniken säkerställer den suveräna ytplanheten hos målmaterialet, vilket ger en stark garanti för avsättning av tunna filmer.

Monokristallint kiselplana mål placeras inuti en vakuumreaktionskammare tillsammans med substratet som ska beläggas under filmavsättningsprocessen. När det monokristallina plana kiselmålet bombarderas av högenergijoner sputteras kiselatomer på dess yta av. Dessa förstoftade kiselatomer migrerar sedan och avsätter sig på ytan av substratet och bildar så småningom en tunn kiselfilm.

Monokristallint kiselplanär mål tjänar som materialkälla för tunnfilmsavsättning. Alla kiselatomer som avsatts på skivans yta kommer från monokristallina plana kiselmål. Därför bestämmer kvaliteten på det plana monokristallina kiselmålet direkt renheten, likformigheten och andra nyckelegenskaper hos den avsatta tunna filmen.

Den suveräna renhetsegenskapen ger monokristallint kisel plana mål med förmågan att förhindra föroreningar från att kontaminera den tunna filmen. Detta förbättrar avsevärt den elektriska prestandan hos halvledarenheter. Förbättringen av de tunna filmernas enhetlighet och vidhäftning drar nytta av dess välordnade kristallstruktur, som gör att sputterpartiklarna kan migrera och avsättas på skivans yta mer regelbundet. Den plana strukturdesignen är lämplig för storarea och höghastighetsförstoftning, och är tillämplig på storskaliga produktionsscenarier som halvledarskivor och displaypaneler.