Silikoninjektor

Semicorex Silicon Injector är en komponent med ultrahög renhet designad för exakt leverans av gas i lågtryckssystem för kemisk ångavsättning (LPCVD) för polykisel och tunnfilmsavsättning. Tillverkad av 9N (99,9999999%)kisel med hög renhet, ger denna fina rörformade injektor överlägsen renhet, kompatibilitet med kemikalier och termisk stabilitet under extrema processförhållanden.

Eftersom halvledartillverkning fortsätter att utvecklas till högre nivåer av integration och strängare kontroll av kontaminering, kommer varje gasleveranskomponent i deponeringskammaren också att behöva uppfylla högre standarder än tidigare. Semicorex Silicon Injector har utvecklats specifikt för dessa typer av krav - levererar gasformiga material på ett stabilt och enhetligt sätt genom hela reaktionskammaren utan att införa föroreningar som skulle negativt påverka filmkvaliteten eller waferutbytet.

Injektorn är tillverkad av monokristallint eller polykristallint kisel beroende på processkrav, och materialet är utformat för att ha låga metalliska, partikelformiga och joniska föroreningar. Detta ger kompatibilitet med ultrarena LPCVD-förhållanden, där till och med spårkontamination kan inducera en defekt i filmen eller fel på en enhet. Användningen av kisel som basmaterial minskar också materialfelanpassningen mellan injektorn och kiselkomponenterna i kammaren, vilket avsevärt minskar riskerna för partikelgenerering eller kemiska reaktioner under användning och högtemperaturdrift.

Silicon Injectors dedikerade rörformade struktur möjliggör en kontrollerad och jämn fördelning av gas över en enhetlig waferbelastning. De mikrokonstruerade öppningarna och den släta innerytan säkerställer reproducerbara flödeshastigheter tillsammans med laminär gasdynamik som är avgörande för konsekvent filmtjocklek och stabila avsättningshastigheter i ugnen. Oavsett om det är silan (SiH4), diklorsilan (SiH₂Cl₂) eller andra reaktiva gaser, erbjuder injektorn pålitlig prestanda och precision som krävs för tillväxt av polykiselfilm av god kvalitet.

På grund av utmärkt termisk stabilitet kan Semicorex Silicon Injector motstå temperaturer upp till 1250 °C och kan kontrolleras utan rädsla för deformation, sprickor eller skevhet under flera cykler av högtemperatur-LPCVD. Dessutom ger dess höga motståndskraft mot oxidation och kemisk tröghet långa körningar i oxiderande, reducerande eller korrosiv atmosfär samtidigt som det minskar underhållet och skapar processstabilitet.

Varje injektor tillverkas med hjälp av toppmodern CNC-bearbetning och polering, vilket uppnår submikrondimensionella toleranser och ultrasläta ytbehandlingar. Den högkvalitativa ytfinishen minimerar gasturbulens, skapar mycket få eller inga partiklar samtidigt som den säkerställer konsekventa flödesegenskaper över inkonsekventa värme- och tryckförändringar. Precisionstillverkning säkerställer hårt kontrollerade processer, reproducerbara och tillförlitliga resultat och därför konsekvent utrustningsprestanda.

Semicorex tillverkar skräddarsydda silikoninjektorer, tillgängliga i anpassade längder, diametrar och munstyckskonfigurationer. Skräddarsydda lösningar kan utvecklas för att förbättra gasspridningsmönster för engångsreaktorgeometrier eller deponeringsrecept. Varje injektor inspekteras och verifieras med avseende på renhet för att leverera den högsta nivån av halvledarkvalitetkiselkomponenter.

Semicorex Silicon Injector ger den precision och renhet som krävs i dagens halvledartillverkning. Inkorporering av 9N kisel med ultrahög renhet, bearbetningsnoggrannhet på mikronnivå och hög termisk och kemisk stabilitet ger jämn gasfördelning, lägre partikelgenerering och exceptionell tillförlitlighet vid avsättning av LPCVD-polykisel.