Silikon Shield Ring

Semicorex Silicon Shield Ring är en kritisk halvledarkomponent i etsningsprocessen. Dess primära funktion är att omge elektroden och förhindra överdrivet plasmaläckage. Med en materialrenhet som överstiger 9N (99,9999999%), kan skärmringen tillverkas av både enkristall och multikristallkisel, vilket säkerställer ultraren drift och pålitlig kompatibilitet med avancerade halvledartillverkningsprocesser.

Noggrann plasmakontroll i CCP/ICP-etsningsprocessen är avgörande för effektiv, enhetlig etshastighet och waferkvalitet. Okontrollerat plasmaläckage utanför det önskade etsningsområdet kan skapa yterosion och kontaminering eller skada komponenterna inuti kammaren. Silikonskyddsringen är en effektiv, enkel lösning på detta problem, skapad för att bilda en skyddande barriär på elektrodens yttre omkrets, hindra plasman från att spridas utanför målområdet och begränsa etsningen till endast det önskade området. Silikonskyddsringen fungerar också som en yttre elektrod för att stabilisera plasmafördelningen och möjliggöra mer enhetlig energi vid skivans yta.

De termiska och elektriska egenskaperna hos kisel stöder ytterligare prestandan hos Etching Shield Ring. Dess motståndskraft mot höga processtemperaturer ger strukturell integritet under långvarig plasmaexponering, och dess elektriska ledningsförmåga gör att komponenten fungerar korrekt som ett element i elektrodsystemet. Tillsammans förbättrar dessa applikationer plasmainneslutning och förbättrar energilikformigheten, vilket möjliggör repeterbara etsningsprofiler över wafers.

Mekanisk tolerans är en annan anmärkningsvärd egenskap hos Silicon Etching Shield-ringen. Genom att tillverkas med snäva toleranser säkerställer den exakt positionering runt elektroden och bibehåller kammarens avstånd och geometri. Denna mekaniska precision genererar repeterbara processförhållanden för mindre variation mellan individuella körningar och hjälper till att möjliggöra högvolym halvledarproduktion. Materialet i sig har utmärkt kompatibilitet med plasmamiljöer; därför eroderar dess struktur att den vanligtvis ger lång livslängd och stabilitet i processprestanda.

Hållbarhet och kostnadseffektivitet är två mer värdefulla fördelar. Genom att skärma av onödiga delar av kammaren från plasman minskar skärmringen slitage på andra kritiska komponenter, vilket minskar underhållsinsatserna och ökar den totala drifttiden. Lång livslängd och mindre frekvent byte gör det till en kostnadseffektiv lösning för halvledarfabriker för att öka produktiviteten och därigenom minska driftskostnaderna.

DeKiselskärmring kan också anpassas för varje verktygskonfiguration och processspecifikationer eftersom de finns i flera storlekar och geometrier för att rymma de många olika plasmaetsningskammarna som tillverkas, samtidigt som de uppnår optimal passform. Dessutom kan ytbehandlingar och polering användas för att ytterligare minska partikelgenereringen för ultrarena tillverkningsstandarder.