Porous Sic Chuck

Semicorex Porous Sic Chuck är en keramisk del som har monterats med precision för säker, effektiv hantering av skivsubstrat för halvledarapplikationer genom processsteg som inspektion, testning och litografi. Chucken är tillverkad av mikro-porös kiselkarbid keramik (SIC). SIC har mekanisk styrka, kemisk resistens och termiska stabilitetsegenskaper som behövs för avancerade halvledarproduktionsmiljöer.

Ett väsentligt kännetecken för den porösa SIC-chucken är dess unika mikrostruktur, som uppvisar en porositet på 35%-40%. Med porositeten i chucken tätt kontrollerad tillåter den överliggande designen att vakuumsugning kan utdelas jämnt över chucken som genererar konsekventa stabila och icke-kontakt stöd för typiskt känsliga skivsubstrat: kisel eller GaN och andra sammansatta halvledare.  Vakuumsugläget undviker både partikelföroreningar och mekaniska skador och därmed bevarar skivintegritet under processen.

Chuckens keramiska kropp är främst SIC med hög renhet, med annan keramik, såsom aluminiumoxid (Al2O3), som potentiellt används för ett begränsat antal funktionella lager beroende på applikationen. Forskningen och utvecklingen av materialet gör det möjligt att hantera porstorlek och distribution att utforma luftflöde och hålla kraft beroende på skivstorlekar och processförhållanden. Om det är viktigt att kontrollera vakuumet på tunnare skivor kommer mindre porstorlek att införlivas. För snabbare flödeshastigheter där det är lämpligt kommer den större porstorleken att användas.

Porösa SIC -chuckar uppvisar färgvariation som ett resultat av variabla porstorlekar, keramiska kompositioner och skjutvillkor. Sic-chuckarna tenderar att vara svart eller mörkgrå eftersom färgen på kiselkarbid är antingen grå eller svart, men chuckar med stort aluminiumoxidinnehåll tenderar att vara off-white i färg. Variationerna i färg har ingen effekt på produktens prestanda och representerar endast de konstruerade egenskaperna som skapades för specifika applikationer för att följa specifika kundbehov.

I avancerade skivbehandlingsverktyg är termisk stabilitet och kemisk inerthet de två viktigaste funktionerna. Kiselkarbid ger utmärkt resistens mot korrosionsgaser och termisk cykling. Den porösa SIC -chucken fungerar framgångsrikt i vakuumkamrar och plasma -etsverktyg, och den fortsätter att fungera bra med snabbt föränderliga temperaturer. Deras förmåga att upprätthålla den dimmensionella stabiliteten hos chucken säkerställer att skivan förblir på samma plats, även om noggrannhetskraven kan ligga under sub-mikron beroende på processen som bidrar till den dimensionella stabiliserade säkerställer noggrannhet.

Semicorex porösa SIC -chuckar tillverkas med auktoriserade formning och sintringsförfaranden som ger enhetlig porositet, hög böjhållfasthet och låg värmeutvidgning. Varje chuck inspekteras för porstruktur, planhet och vakuumprestanda för att säkerställa en pålitlig och repeterbar produkt. Anpassade konstruktioner finns också för att tillgodose specifika skivstorlekar och systemintegrationskrav som baksidan gasflödeskanaler eller monteringsfunktioner.

Sammanfattningsvis är den porösa SIC -chucken ett stödsystem med hög tillförlitlighet som har utformats noggrant för att arbeta i samband med kraven för precisionsbehandling. Med en högvakuumförmåga, anpassningsbar porstruktur och enastående materialstabilitet är det en oundgänglig produkt i dagens halvledarskapslinjer.