Produkter

Semicorex waferhållare för ICP Etching Process är det perfekta valet för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt har överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och optimala laminära gasflödesmönster för konsekventa och pålitliga resultat.

Semicorex ICP Silicon Carbon Coated Graphite är det idealiska valet för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt har överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och optimala laminära gasflödesmönster.

Välj Semicorex ICP Plasma Etching System för PSS Process för högkvalitativa epitaxi- och MOCVD-processer. Vår produkt är konstruerad speciellt för dessa processer och erbjuder överlägsen värme- och korrosionsbeständighet. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.

Semicorex ICP Plasma Etching Plate ger överlägsen värme- och korrosionsbeständighet för waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt är konstruerad för att tåla höga temperaturer och hård kemisk rengöring, vilket säkerställer hållbarhet och livslängd. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.

Letar du efter en pålitlig waferbärare för etsningsprocesser? Se inte längre än Semicorex's Silicon Carbide ICP Etching Carrier. Vår produkt är konstruerad för att tåla höga temperaturer och hård kemisk rengöring, vilket säkerställer hållbarhet och livslängd. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.

Semicorex SiC-platta för ICP-etsningsprocess är den perfekta lösningen för höga temperaturer och hårda kemiska bearbetningskrav vid tunnfilmsavsättning och waferhantering. Vår produkt har överlägsen värmebeständighet och jämn termisk enhetlighet, vilket säkerställer konsekvent epilagertjocklek och motstånd. Med en ren och slät yta ger vår högrena SiC-kristallbeläggning optimal hantering av orörda wafers.