SiC Cantilever paddel

Semicorex SiC (Silicon Carbide) Cantilever Paddle är en avgörande komponent som används i halvledartillverkningsprocesser, särskilt i diffusions- eller LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition) ugnar under processer som diffusion och RTP (Rapid Thermal Processing). Det tjänar syftet att stödja och transportera wafers i processröret i dessa ugnar.

Semicorex SiC Cantilever Paddle är i första hand sammansatt av kiselkarbid, ett robust och termiskt stabilt material känt för sin motståndskraft mot höga temperaturer och utmärkta mekaniska egenskaper. SiC är vald för sin förmåga att motstå de tuffa förhållanden som möter i högtemperaturprocessmiljöer i halvledarugnar. Utformningen av SiC Cantilever Paddle gör att den sträcker sig in i ugnens processrör samtidigt som den är ordentligt förankrad i ena änden utanför röret. Denna design säkerställer stabilitet och stöd för de skivor som bearbetas samtidigt som den minimerar interferens med den termiska miljön inuti ugnen.

SiC Cantilever Paddle ska bära halvledarskivor säkert i processröret under olika högtemperaturprocesser som diffusion och RTP. Dess robusta konstruktion säkerställer att den kan motstå de extrema temperaturer och kemiska miljöer som uppstår under dessa processer utan nedbrytning eller fel. SiC Cantilever-paddlar är designade för att vara kompatibla med ett brett utbud av halvledarwafer-storlekar och -former som vanligtvis används i branschen. De är ofta anpassningsbara för att passa specifika ugnskonfigurationer och processkrav.