SiC Diffusionsugnsrör

De avancerade materialegenskaperna hos Semicorex SiC Diffusion Furnace Tube, inklusive hög böjhållfasthet, enastående oxidations- och korrosionsbeständighet, hög slitstyrka, låg friktionskoefficient, överlägsna mekaniska egenskaper vid hög temperatur och ultrahög renhet, gör den oumbärlig i halvledarindustrin speciellt för diffusionsugnstillämpningar. Vi på Semicorex är dedikerade till att tillverka och leverera högpresterande SiC-diffusionsugnsrör som förenar kvalitet med kostnadseffektivitet.**

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Hög böjhållfasthet: Semicorex SiC-diffusionsugnsrör har en böjhållfasthet som överstiger 200 MPa, vilket säkerställer exceptionell mekanisk prestanda och strukturell integritet under höga belastningsförhållanden som är typiska för halvledartillverkningsprocesser.

Enastående oxidationsbeständighet: Dessa SiC-diffusionsugnsrör uppvisar överlägsen oxidationsbeständighet, den bästa bland all icke-oxidkeramik. Denna egenskap säkerställer långsiktig stabilitet och prestanda i högtemperaturmiljöer, vilket minskar risken för nedbrytning och förlänger rörens livslängd.

Utmärkt korrosionsbeständighet: Den kemiska trögheten hos SiC-diffusionsugnsrör ger utmärkt motståndskraft mot korrosion, vilket gör dessa rör idealiska för användning i tuffa kemiska miljöer som ofta förekommer vid halvledarbearbetning.

Hög slitstyrka: SiC-diffusionsugnsröret är mycket motståndskraftigt mot slitage, vilket är avgörande för att bibehålla dimensionsstabilitet och minska underhållskraven under långa användningsperioder under nötande förhållanden.

Låg friktionskoefficient: Den låga friktionskoefficienten hos SiC-diffusionsugnsröret minskar slitage på både rören och wafers, vilket säkerställer smidig drift och minimerar föroreningsriskerna under halvledarbearbetning.

Överlägsna högtemperaturmekaniska egenskaper: SiC-diffusionsugnsröret visar de bästa mekaniska egenskaperna vid hög temperatur bland kända keramiska material, inklusive enastående styrka och krypmotstånd. Detta gör den särskilt lämplig för applikationer som kräver långvarig stabilitet vid förhöjda temperaturer.

Med CVD-beläggning: Semicorex Chemical Vapor Deposition (CVD) SiC-beläggning uppnår en renhetsnivå på över 99,9995 %, med föroreningshalt under 5 ppm och skadliga metallföroreningar under 1 ppm. CVD-beläggningsprocessen säkerställer att rören uppfyller de stränga vakuumtäthetskraven för 2-3Torr, som är avgörande för tillverkning av högprecisionsmiljöer för halvledartillverkning.

Användning i diffusionsugnar: Dessa SiC-diffusionsugnar är speciellt designade för användning i diffusionsugnar, där de spelar en avgörande roll i högtemperaturprocesser som dopning och oxidation. Deras avancerade materialegenskaper säkerställer att de kan motstå de krävande förhållandena i dessa processer, vilket ökar effektiviteten och tillförlitligheten för halvledarproduktion.