SiC Fin

Semicorex SiC Fin är en högpresterande komponent gjord avkiselkarbidkeramik, den är designad för användning i halvledarepitaxi och etsningssystem. Designad som en cirkulär, skivformad del med olika borrade hål med olika diametrar, är SiC Fin en kritisk komponent för flödesmönster och avgashantering av gaser eller flytande utsläpp under högtemperatur- eller plasmabearbetning. På grund av dess strukturella prestanda, utmärkta korrosionsbeständighet och höga termiska stabilitet är SiC Fin kritisk för avancerad tillverkning av halvledare.

SiC Fin är tillverkad av hög renhetkiselkarbidpulver med hjälp av avancerad formnings- och sintringsprocess. Således har den utmärkt mekanisk styrka och stabilitet vid höga termiska och kemiska förhållanden. De unika fysikaliska egenskaperna hos kiselkarbid såsom hög hårdhet, låg termisk expansion och utmärkt kemisk tröghet gör att fenan kan vara en strukturell komponent i högtemperaturplasma eller reaktiva gasmiljöer, som är karakteristiska för EPI- och etsningsprocesser.

Komponentens skivstruktur, komplett med exakt borrade hål, möjliggör kontrollerade flöden av gaser och vätskor genom processkamrarna. Beroende på applikationen kan hålen konfigureras för att hantera flödet av biprodukter eller dränering för en ren och stabil miljö under waferprocessen. I en epitaxiapplikation, till exempel, kan SiC Fin hjälpa till att styra processgaser eller kondensatflöden, och därigenom förbättra filmens enhetlighet och minimera partikelkontamination. I etsverktyg är det effektivt för säkert och effektivt avlägsnande av reaktiva ämnen och flytande biprodukter som skyddar känsliga kammarkomponenter från kemisk nedbrytning.

Varje Semicorex SiC Fin är tillverkad med mycket snäva toleranser och polerad för att ge utmärkt ytplanhet och dimensionell noggrannhet. Denna tillverkningsprecision säkerställer tillförlitlig prestanda när den integreras i komplicerade system och bibehåller konsekvent funktionalitet under långa driftsperioder. SiC Fin är kompatibel med alla reaktorkonstruktioner och kan specialtillverkas i diameter, tjocklek och hålmönster för att möta kundernas behov. Semicorex kan erbjuda skräddarsydda konstruktioner för att optimera prestanda för processvariabler som flödeshastighet, kammargeometri och temperatur.

Förutom sin mångsidiga funktionalitet har SiC Fin exceptionell hållbarhet och lång livslängd jämfört med andra material. Den är mycket motståndskraftig mot oxidation, plasmaerosion och kemisk korrosion, vilket minskar frekvensen av utbyte av dina delar och minskar systemets stilleståndstid. Dessutom tillåter den termiska ledningsförmågan hos kiselkarbid värmeavledningskapacitet för att hantera värmegradienter i enheten, vilket undviker oönskad skevhet eller sprickbildning under snabb temperaturväxling.

Semicorex använder avanceradkeramiskbearbetnings- och CVD-beläggningsförmåga för att ge högsta renhet och konsistens av den SiC Fin som produceras. Varje SiC Fin inspekteras också för densitet, mikrostrukturens enhetlighet och ytperfektion för att säkerställa att den uppfyller de krävande kraven från halvledarindustrin. Detta resulterar i en komponent som har mekanisk integritet och robusthet för stabil, långvarig drift i extrema miljöer.

Semicorex SiC Fin är resultatet av toppmodern materialvetenskap och ingenjörsteknik. Det tillverkar inte bara effektiva avgas- och vätskeflöden, utan bidrar till renheten och tillförlitligheten hos hela epitaxi- och etssystemet. Den kombinerar mekanisk styrka, termisk stabilitet och korrosionslivslängd för att ge en mer konsekvent upplevelse för halvledarbearbetningstillämpningar.