Semicorex SiC Wafer Boats är avancerade komponenter noggrant designade för halvledartillverkning, speciellt i diffusions- och termiska processer. Med vårt orubbliga åtagande att tillhandahålla produkter av högsta kvalitet till konkurrenskraftiga priser, är vi redo att bli din långsiktiga partner i Kina.*
Semicorex SiC Wafer Boat, tillverkad av Silicon Carbide (SiC) keramik, leder vägen för att möta kraven från halvledarindustrin genom att leverera oöverträffad prestanda i högtemperaturmiljöer. När halvledarindustrin obevekligt tänjer på gränserna för mikrotillverkning, blir efterfrågan på motståndskraftiga och robusta material avgörande.
SiC Wafer Boat spelar en avgörande roll för att hålla och stödja flera wafers under termiska processer som diffusion, oxidation och kemisk ångavsättning (CVD). Dessa processer innefattar att utsätta skivorna för extremt höga temperaturer, ofta över 1000°C, i en kontrollerad atmosfär. Likformigheten och konsistensen hos dessa termiska behandlingar är avgörande för att säkerställa kvaliteten och prestandan hos de halvledarenheter som tillverkas. Förmågan hos SiC Wafer Boat att motstå så höga temperaturer utan deformation eller nedbrytning säkerställer att wafers är jämnt bearbetade, vilket leder till överlägsen enhetsutbyte och prestanda.
Den exceptionella värmeledningsförmågan hos SiC waferbåtarna garanterar jämn värmefördelning över alla wafers, vilket minimerar risken för temperaturgradienter som kan leda till defekter i halvledarenheterna. Dessutom resulterar SiC:s låga termiska expansionskoefficient (CTE) i minimal termisk expansion och sammandragning under uppvärmnings- och kylcykler. Denna stabilitet är avgörande för att förhindra mekanisk påkänning och potentiell skada på skivorna, särskilt med krympande enhetsgeometrier.
Under termiska processer utsätts wafers för olika reaktiva gaser som kan interagera med materialen i SiC wafer-båten. SiC:s utmärkta kemikaliebeständighet säkerställer att den inte reagerar med dessa gaser, vilket förhindrar kontaminering och säkerställer renheten hos skivorna. Detta är särskilt viktigt vid produktion av avancerade halvledarenheter, där även spårmängder av kontaminering kan leda till defekter och minska enhetens tillförlitlighet.