SiC Wafer Cassette

Semicorex SiC wafer-kassett, även känd som en kaklade wafer-båt, utvecklades specifikt för oxidation, diffusion och glödgning vid temperaturer över 1200°C. Kassetterna ger betydande mekaniskt stöd, såväl som inriktning för många wafers samtidigt under högtemperaturugnar, och uppvisar stor mekanisk och dimensionell stabilitet under termisk stress och efteråt.  Efterfrågan på ultrarena och termiskt stabila material för waferhanteringssystem ökar i takt med att halvledarenheter minskar i storlek och ökar i prestanda.

Kassetten är gjord av hög renhetkiselkarbid, det finns också beläggningar som kan appliceras för ännu större fördelar också. SiC har utmärkt termisk chock, korrosion och dimensionell deformationsstabilitet.  SiC har unik hårdhet, kemisk tröghet och värmeledningsförmåga så att det är ett idealiskt material för denna processmiljö. SiC, i förhållande till kvarts- och aluminiumoxidalternativ, kommer inte att minska dess mekaniska och kemiska egenskaper vid höga bearbetningstemperaturer, vilket minskar risken för kontaminering och förbättrar waferprocessens enhetlighet under tillverkningsprocesserna.

Den ultrahöga renheten hos SiC waferkassetten uppvisar motstånd mot metalliska eller joniska föroreningar som kommer in i processkammaren; något som är absolut nödvändigt för hög renhet för att uppfylla processkrav för avancerade halvledartillverkningsprocesser. Genom att minimera källor till föroreningar kommer kiselkarbidkassetter att öka waferutbytet och enhetens tillförlitlighet.

Semicorex precisionsbearbetningsteknik gör att varje kassett kan produceras med snäva toleranser, enhetlig spårdelning och parallell inriktning. Precisionsbearbetningen av materialen stöder smidig laddning och lossning av wafers, vilket minskar risken för repor vid hantering av wafers. Det exakta spåravståndet möjliggör enhetlig temperatur och luftflöde över alla wafers, vilket främjar enhetlighet i oxidation och diffusion samtidigt som processvariabiliteten minskar.

Sic har utmärkt värmeledningsförmåga, dimensionsstabilitet och ger tillförlitlig prestanda under upprepade termiska cykler. Materialet är stabilt och varken skevt eller spricker; dess höga styvhet bibehåller strukturell integritet med hög temperatur under långa tidsperioder, vilket avsevärt minskar den mekaniska belastningen på wafers samtidigt som sannolikheten för att oönskade partiklar genereras vid hantering på grund av friktion eller mikrovibrationer.

Dessutom,Sics tröghet mot kemikalier skyddar skivorna från reaktion på processgaserna (t.ex. syre, väte, ammoniak) som vanligtvis är involverade under bearbetningen. Waferkassetterna är stabila i oxiderande och ooxiderande atmosfärer och kan införlivas i ugnens arbetsflöde över ett antal processer såsom oxidation, diffusion, LPCVD och glödgning.

För att möta specifika processkrav erbjuder Semicorex skräddarsydda SiC-waferkassetter i olika storlekar, antal slitsar och konfigurationer. Varje enhet genomgår rigorös kvalitetsinspektion och ytbehandling för att säkerställa jämnhet, renhet och dimensionsnoggrannhet. Valfri ytpolering minskar ytterligare partikelgenerering och förbättrar kompatibiliteten med automatiserade waferhanteringssystem.