Semicorex's ICP-etsningswaferhållare är den perfekta lösningen för högtemperaturwaferhanteringsprocesser som epitaxi och MOCVD. Med en stabil oxidationsbeständighet vid hög temperatur på upp till 1600°C säkerställer våra bärare jämna termiska profiler, laminära gasflödesmönster och förhindrar kontaminering eller diffusion av föroreningar.
Läs merSkicka förfråganSemicorex ICP Etching Carrier Plate är den perfekta lösningen för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt ger överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och laminära gasflödesmönster. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.
Läs merSkicka förfråganSemicorex waferhållare för ICP Etching Process är det perfekta valet för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt har överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och optimala laminära gasflödesmönster för konsekventa och pålitliga resultat.
Läs merSkicka förfråganSemicorex ICP Silicon Carbon Coated Graphite är det idealiska valet för krävande waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt har överlägsen värme- och korrosionsbeständighet, jämn termisk enhetlighet och optimala laminära gasflödesmönster.
Läs merSkicka förfråganVälj Semicorex ICP Plasma Etching System för PSS Process för högkvalitativa epitaxi- och MOCVD-processer. Vår produkt är konstruerad speciellt för dessa processer och erbjuder överlägsen värme- och korrosionsbeständighet. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.
Läs merSkicka förfråganSemicorex ICP Plasma Etching Plate ger överlägsen värme- och korrosionsbeständighet för waferhantering och tunnfilmsavsättningsprocesser. Vår produkt är konstruerad för att tåla höga temperaturer och hård kemisk rengöring, vilket säkerställer hållbarhet och livslängd. Med en ren och slät yta är vår bärare perfekt för att hantera orörda wafers.
Läs merSkicka förfrågan