Waferhållare

Semicorex waferhållare är en kritisk komponent i halvledartillverkning och spelar en nyckelroll för att säkerställa korrekt och effektiv hantering av wafers under epitaxiprocessen. Vi är fast beslutna att tillhandahålla produkter av högsta kvalitet till konkurrenskraftiga priser och ser fram emot att starta ett företag med dig.*

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Semicorex Wafer Holder är genialiskt konstruerad med en kärna gjord av högren grafit och noggrant belagd med Silicon Carbide (SiC) för att möta de krävande kraven för Liquid Phase Epitaxy (LPE) utrustning. Dess konstruktion och materialval är helt avgörande för att bibehålla integriteten hos wafers under de högtemperaturprocesser som är inneboende i halvledartillverkning.

Den SiC-belagda grafitwaferhållaren visar enastående motståndskraft mot slitage, en viktig egenskap för att bibehålla de exakta dimensioner och ytkvalitet som krävs för optimal waferhantering. I LPE-processer är integriteten hos waferhållarens yta avgörande, eftersom all nedbrytning eller ojämnhet kan resultera i defekter i wafern, vilket leder till lägre utbyten och ökat spill. SiC-beläggningen säkerställer att waferhållaren bibehåller en jämn, stabil yta under upprepade cykler, vilket bidrar till den övergripande tillförlitligheten och konsistensen av epitaxiprocessen.

Dessutom förbättrar SiC-beläggningen waferhållarens termiska prestanda. Silicon Carbides höga värmeledningsförmåga säkerställer jämn värmefördelning över skivan under epitaxiprocessen, avgörande för att förhindra värmegradienter som kan orsaka skevhet eller sprickbildning av skivorna. Detta garanterar att slutprodukterna uppfyller de stränga kvalitetsstandarder som krävs vid tillverkning av halvledarprodukter. Kombinationen av grafitens inneboende termiska egenskaper med de extra fördelarna med SiC-beläggningen skapar en waferhållare som kan motstå de mest utmanande termiska miljöerna.

Waferhållarens design är optimerad för dess tillämpning i LPE-utrustning. Waferhållaren är exakt bearbetad för att rymma wafers säkert, vilket minimerar risken för rörelse eller felinriktning under epitaxiprocessen. Denna precision är avgörande, eftersom även den minsta förskjutning i skivans position kan leda till ojämn avsättning, vilket påverkar prestandan hos de halvledarenheter som tillverkas. Den SiC-belagda grafitwaferhållaren ger den nödvändiga stabiliteten, vilket säkerställer att wafers förblir i rätt position under hela processen.