Enkristall-kiselelektroder

Enkristallkiselelektroderär vanligtvis installerade på toppen av etsningskammaren och tjänar som den övre elektroden. Ytan på enkristallkiselelektroder har jämnt fördelade mikrohål, som jämnt kan leverera etsgas till reaktionskammaren. Under etsningsprocessen arbetar de med den nedre elektroden för att generera ett enhetligt elektriskt fält, vilket bidrar till att ge ett idealiskt driftsförhållande för precisionsetsning.

Noggranna materialval

Semicorex väljer premium MCZ-odlat monokristallint kisel för att tillverka enkristallina kiselelektroder, vilket erbjuder branschledande produktprestanda och kvalitet.

1. Ultrahög renhet

Semicorex enkristallkiselelektroder har en ultrahög renhet på över 99,9999999 %, vilket betyder att innehållet av inre metallföroreningar är extremt lågt.

2. Exceptionell motståndslikformighet

Till skillnad från det konventionella CZ-enkristallina kislet, uppnår det MCZ-odlade monokristallina kislet som används av Semicorex en resistivitetslikformighet under 5 %. Dess lågupplösning. styrs under 0,02 Ω·cm, medelupplösning. är mellan 0,2 och 25Ω·cm, och hög upplösning. är mellan 70-90 Ω·cm (anpassning är tillgänglig på begäran).

3. Utmärkt materialstruktur

Enkristallkislet som odlas via MCZ-metoden erbjuder en stabilare struktur och färre defekter, vilket gör att Semicorex enkristallkiselelektroder levererar enastående plasmakorrosionsbeständighet och tål hårda etsningsförhållanden.

---

Bearbetningsprecision av hög standard

Semicorexenkristall kiselelektroder tillverkas genom en komplett produktionsprocess från kiselgöt till färdig produkt, inklusive skivning, ytslipning, hålborrning, våtetsning och ytpolering. Semicorex upprätthåller strikt precisionskontroll i varje steg för att säkerställa att diameter, tjocklek, ytplanhet, hålavstånd och öppning för elektroderna hålls inom idealiska toleranser.

1. Mikrohålsbehandling

Mikrohålen på enkristallkiselelektroder har jämnt avstånd och konsekventa diametrar (från 0,2 till 0,8 mm), med släta och gradfria innerväggar. Detta garanterar effektivt enhetlig och stabil tillförsel av etsgas, vilket säkerställer enhetligheten och precisionen för waferetsningen.

2. Bearbetningsnoggrannhet

Bearbetningsnoggrannheten för Semicorex enkristallkiselelektroder kontrolleras inom 0,3 mm, och deras poleringsprecision kan strikt kontrolleras under 0,1 µm, och finslipningen är mindre än 1,6 µm.