MOCVD satellithållarplatta

Semicorex MOCVD Satellite Holder Plate är en enastående bärare designad för användning inom halvledarindustrin. Dess höga renhet, utmärkta korrosionsbeständighet och till och med termiska profil gör den till ett utmärkt val för dem som letar efter en bärare som klarar kraven från halvledartillverkningsprocessen. Vi har åtagit oss att förse våra kunder med högkvalitativa produkter som uppfyller deras specifika krav. Kontakta oss idag för att lära dig mer om vår MOCVD-satellithållarplatta och hur vi kan hjälpa dig med dina behov av halvledartillverkning.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Semicorex MOCVD Satellite Holder Plate är en högkvalitativ bärare designad för användning inom halvledarindustrin. Vår produkt är belagd med en högren kiselkarbid på grafit, vilket gör den mycket motståndskraftig mot oxidation vid höga temperaturer på upp till 1600°C. Den kemiska ångavsättningsprocessen för CVD som används i dess tillverkning säkerställer hög renhet och utmärkt korrosionsbeständighet, vilket gör den idealisk för användning i renrumsmiljöer.
Funktionerna hos vår MOCVD satellithållarplatta är imponerande. Dess täta yta och fina partiklar förbättrar dess korrosionsbeständighet, vilket gör den resistent mot syra, alkali, salt och organiska reagens. Denna bärare är mycket stabil, även i extrema miljöer, vilket gör den till ett utmärkt val för dem som letar efter en bärare som klarar kraven från halvledarindustrin.

Parametrar för MOCVD satellithållarplatta

Huvudspecifikationer för CVD-SIC-beläggning
SiC-CVD-egenskaper
Kristallstruktur	FCC β-fas
Densitet	g/cm³	3.21
Hårdhet	Vickers hårdhet	2500
Kornstorlek	μm	2~10
Kemisk renhet	%	99.99995
Värmekapacitet	J kg-1 K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Felexural styrka	MPa (RT 4-punkts)	415
Youngs modul	Gpa (4pt böj, 1300 ℃)	430
Termisk expansion (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Värmeledningsförmåga	(W/mK)	300

Funktioner hos SiC-belagd grafitsusceptor för MOCVD

- Undvik att skala av och säkerställ beläggning på alla ytor
Oxidationsbeständighet vid hög temperatur: Stabil vid höga temperaturer upp till 1600°C
Hög renhet: tillverkad av CVD kemisk ångavsättning under högtemperaturkloreringsförhållanden.
Korrosionsbeständighet: hög hårdhet, tät yta och fina partiklar.
Korrosionsbeständighet: syra, alkali, salt och organiska reagenser.
- Uppnå det bästa laminära gasflödesmönstret
- Garanterar jämnhet av termisk profil
- Förhindra all kontaminering eller spridning av föroreningar