> Produkter > Silikonkarbidbelagd > MOCVD-acceptor > Semiconductor Wafer Carrier för MOCVD-utrustning

Produkter

Nya produkter

Semiconductor Wafer Carrier för MOCVD-utrustning

Du kan vara säker på att köpa Semiconductor Wafer Carrier för MOCVD-utrustning från vår fabrik. Halvledarwaferbärare är en viktig komponent i MOCVD-utrustning. De används för att transportera och skydda halvledarskivor under tillverkningsprocessen. Halvledarwaferbärare för MOCVD-utrustning är gjorda av material med hög renhet och är designade för att bibehålla integriteten hos wafers under bearbetning.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

vår Halvledarwaferbärare för MOCVD-utrustning är en viktig komponent i halvledartillverkningsprocessen. Den är gjord av högren grafit med kiselkarbidbeläggning med CVD-metoden och är designad för att rymma flera skivor. Bäraren erbjuder flera fördelar, inklusive förbättrad avkastning, ökad produktivitet, minskad kontaminering, ökad säkerhet och kostnadseffektivitet. Om du letar efter en pålitlig och högkvalitativ halvledarwaferbärare för MOCVD-utrustning är vår produkt den perfekta lösningen.
Kontakta oss idag för att lära dig mer om vår Semiconductor Wafer Carrier för MOCVD-utrustning.

Parametrar för halvledarwaferbärare för MOCVD-utrustning

Huvudspecifikationer för CVD-SIC-beläggning
SiC-CVD-egenskaper
Kristallstruktur	FCC β-fas
Densitet	g/cm³	3.21
Hårdhet	Vickers hårdhet	2500
Kornstorlek	μm	2~10
Kemisk renhet	%	99.99995
Värmekapacitet	J kg-1 K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Felexural styrka	MPa (RT 4-punkts)	415
Youngs modul	Gpa (4pt böj, 1300 ℃)	430
Termisk expansion (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Värmeledningsförmåga	(W/mK)	300

Funktioner hos SiC-belagd grafitsusceptor för MOCVD

- Undvik att skala av och säkerställ beläggning på alla ytor
Oxidationsbeständighet vid hög temperatur: Stabil vid höga temperaturer upp till 1600°C
Hög renhet: tillverkad av CVD kemisk ångavsättning under högtemperaturkloreringsförhållanden.
Korrosionsbeständighet: hög hårdhet, tät yta och fina partiklar.
Korrosionsbeständighet: syra, alkali, salt och organiska reagenser.
- Uppnå det bästa laminära gasflödesmönstret
- Garanterar jämnhet av termisk profil
- Förhindra all kontaminering eller spridning av föroreningar