Kiselepitaxisusceptorer

Du kan vara säker på att köpa Silicon Epitaxy Susceptors från vår fabrik. Semicorex's Silicon Epitaxy Susceptor är en högkvalitativ, hög renhetsprodukt som används i halvledarindustrin för epitaxiell tillväxt av waferchipset. Vår produkt har en överlägsen beläggningsteknik som säkerställer att beläggningen finns på alla ytor, vilket förhindrar att den lossnar. Produkten är stabil vid höga temperaturer upp till 1600°C, vilket gör den lämplig för användning i extrema miljöer.

Skicka förfrågan

Produktbeskrivning

Våra kiselepitaxisusceptorer är gjorda av CVD kemisk ångavsättning under högtemperaturkloreringsförhållanden, vilket säkerställer hög renhet. Produktens yta är tät, med fina partiklar och hög hårdhet, vilket gör den korrosionsbeständig mot syra, alkali, salt och organiska reagenser.
Vår produkt är designad för att uppnå det bästa laminära gasflödesmönstret, vilket garanterar en jämn termisk profil. Våra kiselepitaxisceptorer förhindrar all kontaminering eller diffusion av föroreningar under den epitaxiella tillväxtprocessen, vilket säkerställer resultat av hög kvalitet.
På Semicorex fokuserar vi på att tillhandahålla högkvalitativa, kostnadseffektiva produkter till våra kunder. Våra kiselepitaxisusceptorer har en prisfördel och exporteras till många europeiska och amerikanska marknader. Vi strävar efter att vara din långsiktiga partner som levererar konsekventa kvalitetsprodukter och exceptionell kundservice.

Parametrar för Silicon Epitaxi Susceptorer

Huvudspecifikationer för CVD-SIC-beläggning
SiC-CVD-egenskaper
Kristallstruktur	FCC Î² fas
Densitet	g/cm³	3.21
Hårdhet	Vickers hårdhet	2500
Kornstorlek	Î¼m	2~10
Kemisk renhet	%	99.99995
Värmekapacitet	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Felexural styrka	MPa (RT 4-punkts)	415
Youngs modul	Gpa (4pt böj, 1300â)	430
Termisk expansion (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Värmeledningsförmåga	(W/mK)	300

Parametrar för Silicon Epitaxi Susceptorer

- Undvik att skala av och säkerställ beläggning på alla ytor
Oxidationsbeständighet vid hög temperatur: Stabil vid höga temperaturer upp till 1600°C
Hög renhet: tillverkad av CVD kemisk ångavsättning under högtemperaturkloreringsförhållanden.
Korrosionsbeständighet: hög hårdhet, tät yta och fina partiklar.
Korrosionsbeständighet: syra, alkali, salt och organiska reagenser.
- Uppnå det bästa laminära gasflödesmönstret
- Garanterar jämnhet av termisk profil
- Förhindra all kontaminering eller spridning av föroreningar