TaC-beläggningsgrafit skapas genom att belägga ytan på ett grafitsubstrat med hög renhet med ett fint lager av tantalkarbid genom en egenutvecklad process för kemisk ångavsättning (CVD).
Tantalkarbid (TaC) är en förening som består av tantal och kol. Det har metallisk elektrisk ledningsförmåga och en exceptionellt hög smältpunkt, vilket gör det till ett eldfast keramiskt material känt för sin styrka, hårdhet och värme- och slitstyrka. Smältpunkten för tantalkarbider når en topp vid cirka 3880°C beroende på renhet och har en av de högsta smältpunkterna bland de binära föreningarna. Detta gör det till ett attraktivt alternativ när högre temperaturkrav överstiger prestanda som används i epitaxiella processer för sammansatta halvledare som MOCVD och LPE.
Materialdata för Semicorex TaC Coating
Projekt |
Parametrar |
Densitet |
14,3 (gm/cm³) |
Emissionsförmåga |
0.3 |
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
Hårdhet (HK) |
2000 |
Motstånd (Ohm-cm) |
1×10-5 |
Termisk stabilitet |
<2500℃ |
Ändring av grafitdimension |
-10~-20um (referensvärde) |
Beläggningstjocklek |
≥20um typiskt värde (35um±10um) |
|
|
Ovanstående är typiska värden |
|
Semicorex TaC Coating Wafer Tray måste konstrueras för att klara utmaningarna de extrema förhållandena i reaktionskammaren, inklusive höga temperaturer och kemiskt reaktiva miljöer.**
Läs merSkicka förfråganSemicorex TaC Coating Plate utmärker sig som en högpresterande komponent för krävande epitaxiell tillväxtprocess och ytterligare halvledartillverkningsmiljöer. Med sin serie av överlägsna egenskaper kan den i slutändan förbättra produktiviteten och kostnadseffektiviteten hos avancerade halvledartillverkningsprocesser.**
Läs merSkicka förfråganSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon är en oumbärlig tillgång i epitaxivärlden, som ger en robust lösning på de utmaningar som höga temperaturer, reaktiva gaser och stränga renhetskrav innebär.**
Läs merSkicka förfråganSemicorex CVD TaC Coating Cover har blivit en kritisk möjliggörande teknologi i de krävande miljöerna inom epitaxireaktorer, som kännetecknas av höga temperaturer, reaktiva gaser och stränga renhetskrav, vilket kräver robusta material för att säkerställa konsekvent kristalltillväxt och förhindra oönskade reaktioner.**
Läs merSkicka förfråganSemicorex TaC Coating Guide Ring fungerar som en viktig del i utrustning för metall-organisk kemisk ångavsättning (MOCVD), vilket säkerställer den exakta och stabila leveransen av prekursorgaser under den epitaxiella tillväxtprocessen. TaC Coating Guide Ring representerar en serie egenskaper som gör den idealisk för att motstå de extrema förhållanden som finns i MOCVD-reaktorkammaren.**
Läs merSkicka förfråganSemicorex TaC Coating Wafer Chuck står som höjdpunkten av innovation i halvledarepitaxiprocessen, en kritisk fas i halvledartillverkning. Med vårt åtagande att leverera högkvalitativa produkter till konkurrenskraftiga priser, är vi redo att vara din långsiktiga partner i Kina.*
Läs merSkicka förfrågan